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1. (WO2019047464) EVAPORATOR
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国際公開番号: WO/2019/047464 国際出願番号: PCT/CN2018/072702
国際公開日: 14.03.2019 国際出願日: 15.01.2018
IPC:
C23C 14/24 (2006.01) ,C23C 14/04 (2006.01) ,C23C 14/50 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
50
基板保持具
出願人:
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 305 Room, Building C5 Biolake of Optics Valley, No. 666 Gaoxin Avenue East Lake High-Tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
発明者:
蔡丰豪 CAI, Fenghao; CN
代理人:
广州三环专利商标代理有限公司 SCIHEAD IP LAW FIRM; 中国广东省广州市 越秀区先烈中路80号汇华商贸大厦1508室 Room 1508, Huihua Commercial & Trade Building No. 80, Xianlie Zhong Road, Yuexiu District Guangzhou, Guangdong 510070, CN
優先権情報:
201710812416.711.09.2017CN
発明の名称: (EN) EVAPORATOR
(FR) ÉVAPORATEUR
(ZH) 蒸镀机
要約:
(EN) An evaporator, being used for evaporating a glass substrate (1). The evaporator comprises a vacuum evaporation chamber (2), and an evaporation source (3), a metal mask plate (4), a movable part (5) and a bracket (6) which are housed in the vacuum evaporation chamber (2); the bracket (6) is mounted to the movable part (5), the metal mask plate (4) is supported below the bracket (6) and is located above the evaporation source (3), and is movable relative to the bracket (6); the glass substrate (1) is adsorbed on a surface of the bracket (6) facing toward the metal mask plate (4) and there is a gap between the glass substrate and the metal mask plate (4), the glass substrate (1) at least has two evaporation regions, the movable part (5) drives the bracket (6) to move, and further drives the glass substrate (1) to move relative to the metal mask plate (4), to make the position of the evaporation regions of the glass substrate (1) corresponding to that of the metal mask plate (4).
(FR) L'invention concerne un évaporateur, utilisé pour évaporer un substrat en verre (1). L'évaporateur comprend une chambre d'évaporation sous vide (2), et une source d'évaporation (3), une plaque de masque métallique (4), une partie mobile (5) et un support (6) qui sont logés dans la chambre d'évaporation sous vide (2); le support (6) est monté sur la partie mobile (5), la plaque de masque métallique (4) est supportée sous le support (6) et est située au-dessus de la source d'évaporation (3), et est mobile par rapport au support (6); le substrat de verre (1) est adsorbé sur une surface du support (6) tournée vers la plaque de masque métallique (4) et il y a un espace entre le substrat de verre et la plaque de masque métallique (4), le substrat de verre (1) comporte au moins deux régions d'évaporation, la partie mobile (5) entraîne le déplacement du support (6), et entraîne en outre le déplacement du substrat de verre (1) par rapport à la plaque de masque métallique (4), pour faire correspondre la position des régions d'évaporation du substrat de verre (1) à celle de la plaque de masque métallique (4).
(ZH) 一种蒸镀机,用于对玻璃基板(1)的蒸镀,蒸镀机包括真空蒸镀腔(2)、以及收容于真空蒸镀腔(2)内的蒸镀源(3)、金属掩膜板(4)、移动部(5)以及托架(6),托架(6)装设于移动部(5)上,金属掩膜板(4)被支撑于托架(6)下方并位于蒸镀源(3)上方可相对托架(6)移动,玻璃基板(1)吸附于托架(6)朝向金属掩膜(4)的表面并与金属掩膜板(4)之间留有间隙,玻璃基板(1)至少包括两个蒸镀区域,移动部(5)带动托架(6)移动,进而带动玻璃基板(1)相对于金属掩膜板(4)移动,以使玻璃基板(1)的蒸镀区域与金属掩膜板(4)的位置对应。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)