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1. (WO2019046573) POLYMER-ENCASED NANODISCS WITH IMPROVED BUFFER COMPATIBILITY
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国際公開番号: WO/2019/046573 国際出願番号: PCT/US2018/048840
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 30.08.2018
IPC:
C08F 222/08 (2006.01) ,C08F 8/32 (2006.01) ,C08F 8/34 (2006.01) ,C08F 8/40 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
222
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つがカルボキシル基によって停止されており,そして分子中に少なくとも1個の他のカルボキシル基を含有する化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
04
無水物,例.環状無水物
06
無水マレイン酸
08
ビニル芳香族単量体との
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
8
後処理による化学的変性
30
窒素原子または窒素含有基の導入
32
アミンとの反応
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
8
後処理による化学的変性
34
いおう原子またはいおう含有基の導入
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
8
後処理による化学的変性
40
りん原子またはりん含有基の導入
出願人:
TEXAS TECH UNIVERSITY SYSTEM [US/US]; Office of Research Commercialization P.O. Box 42007 Lubbock, TX 79409-2007, US
発明者:
ALTENBERG, Guillermo, A.; US
LIANG, Hongjun; US
代理人:
FLORES, Edwin, S.; US
CHALKER, Daniel, J.; US
CHALKER FLORES, LLP; Daneil J. Chalker 14951 North Dallas Parkways, Suite 400 Dallas, TX 75254, US
優先権情報:
16/117,07330.08.2018US
62/552,60531.08.2017US
62/596,97611.12.2017US
発明の名称: (EN) POLYMER-ENCASED NANODISCS WITH IMPROVED BUFFER COMPATIBILITY
(FR) NANODISQUES ENROBÉS DE POLYMÈRE PRÉSENTANT UNE COMPATIBILITÉ AU TAMPON AMÉLIORÉE
要約:
(EN) The present invention includes compositions, methods, and methods of making and using a polymer-encased nanodisc comprising: one or more integral membrane proteins in a lipid layer; and a polymer comprising zwitterionic styrene-maleic acid derivative repeating units that carry zero or nearly zero negative charge, and the polymer-encased nanodiscs.
(FR) La présente invention concerne des compositions, des procédés et des procédés de fabrication et d'utilisation d'un nanodisque enrobé de polymère comprenant : une ou plusieurs protéines membranaires intégrales dans une couche lipidique; et un polymère comprenant des motifs de répétition dérivés d'acide maléique/styrène zwitterionique qui transportent aucune ou presque aucune charge négative, et les nanodisques enrobés de polymère.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)