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1. (WO2019044918) 高分子膜形成装置、高分子膜形成方法およびセパレータの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/044918 国際出願番号: PCT/JP2018/031992
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 29.08.2018
IPC:
B05C 5/02 (2006.01) ,B05C 9/04 (2006.01) ,B05C 13/02 (2006.01) ,B05D 1/26 (2006.01) ,B05D 7/00 (2006.01) ,H01G 11/52 (2013.01) ,H01M 2/16 (2006.01)
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C
液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
5
液体または他の流動性材料が被加工物の表面上に射出,注出あるいは流下されるようにした装置
02
被加工物と接触またはほとんど接触している出口機構からのもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C
液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
9
グループ1/00から7/00に包含されない手段によって表面に液体もしくは他の流動性材料を適用する装置または設備,または液体もしくは他の流動性材料を適用する手段が重要でないような装置もしくは設備
04
被加工物の両側に液体または他の流動性材料を適用するためのもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C
液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
13
被加工物の操作手段または保持手段,例.個々の物品のためのもの
02
特定の物品のためのもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
26
表面と接触,またはほとんど接触する排出口機構から液体または他の流動性材料を適用することによって行なわれるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7
液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
11
ハイブリッドコンデンサ,すなわち異なる正と負の電極をもつコンデンサ;電気二重層コンデンサ;その製造のプロセスまたはその部品製造のプロセス
52
セパレータ
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
2
発電要素以外の部分の構造の細部またはその製造方法
14
隔離板;薄膜;隔膜;間隔保持部材
16
材質に特徴のあるもの
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
木ノ下 英樹 KINOSHITA Hideki; JP
佐久間 勇 SAKUMA Isamu; JP
守屋 豪 MORIYA Go; JP
代理人:
特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング10階 Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2017-16524130.08.2017JP
発明の名称: (EN) POLYMER FILM FORMING DEVICE, POLYMER FILM FORMING METHOD, AND SEPARATOR MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM POLYMÈRE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM POLYMÈRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SÉPARATEUR
(JA) 高分子膜形成装置、高分子膜形成方法およびセパレータの製造方法
要約:
(EN) This polymer film forming device is provided with: a slit die (2) in which a slit (7) is formed to apply a polymer solution-containing coating liquid to a web (1) which is conveyed in the downward direction; and a means for bringing a film made of the coating liquid applied on the surface of the web (1) to come into contact with a non-solvent, wherein the slit die (2) is installed such that among slit die tip portions (8) including an upstream-side die tip portion (8a) and a downstream-side die tip portion (8b) in the conveying direction of the web (1), only the upstream-side die (3) tip portion is in contact with the web (1), and a member for supporting the web (1) with the web (1) therebetween is not disposed at a position facing the slit die tip portions (8).
(FR) L'invention concerne un dispositif de formation de film polymère, comportant : une filière à fente (2), dans laquelle une fente (7) est formée en vue d'appliquer un liquide de revêtement contenant une solution polymère à une bande (1) qui est transportée dans la direction vers le bas ; et un moyen destiné à amener un film constitué du liquide de revêtement appliqué sur la surface de la bande (1) à entrer en contact avec un non-solvant, la filière à fente (2) étant logée de sorte que, parmi des parties de pointe de filière à fente (8) comprenant une partie de pointe de filière côté amont (8a) et une partie de pointe de filière côté aval (8b) dans la direction de transport de la bande (1), seule la partie de pointe de filière côté amont (3) soit en contact avec la bande (1), et qu'un élément destiné à maintenir la bande (1) entre ces dernières ne soit pas disposé à une position faisant face aux parties de pointe de filière à fente (8).
(JA) 下方向に搬送されるウェブ(1)に高分子溶液を含む塗工液を塗布するために、内部にスリット(7)が形成されたスリットダイ(2)と、ウェブ(1)の表面に塗布された塗工液からなる塗膜を非溶媒に接触させる手段と、を備え、前記スリットダイ(2)は、ウェブ(1)の搬送方向における上流側ダイ先端部(8a)及び下流側ダイ先端部(8b)を含むスリットダイ先端部(8)のうち、前記上流側ダイ(3)先端部のみがウェブに接触するように設置されており、前記スリットダイ先端部(8)の対向位置に、前記ウェブ(1)を介して前記ウェブ(1)を支持する部材が配置されていないことを特徴とする高分子膜形成装置。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)