このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019044871) 薬液の精製方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/044871 国際出願番号: PCT/JP2018/031868
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 29.08.2018
IPC:
B01D 61/58 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,B01D 61/22 (2006.01) ,B01D 65/02 (2006.01) ,B01D 69/02 (2006.01) ,B01D 71/10 (2006.01) ,B01D 71/32 (2006.01) ,B01D 71/48 (2006.01) ,B01D 71/56 (2006.01) ,B01D 71/64 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
58
多段階工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
14
限外ろ過;精密ろ過
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
14
限外ろ過;精密ろ過
22
制御または調節
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
65
半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作
02
膜の洗浄または滅菌
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
それらの特性に特徴のあるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
08
多糖類
10
セルロース;セルロース変性物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
30
ポリアルケニルハロゲン化合物
32
ふっ素原子を含むもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
48
ポリエステル
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
56
ポリアミド,例.ポリエステルアミド
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
58
主鎖に酸素または炭素のみを有しまたは有せずに窒素を含有する他の重合体
62
主鎖に窒素含有複素環を有する重縮合体
64
ポリイミド;ポリアミド―イミド;ポリエステル―イミド;ポリアミド酸または類似のポリイアミド先駆物質
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
吉留 正洋 YOSHIDOME Masahiro; JP
河田 幸寿 KAWADA Yukihisa; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2017-16563730.08.2017JP
2018-15263814.08.2018JP
発明の名称: (EN) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION DE SOLUTION MÉDICAMENTEUSE
(JA) 薬液の精製方法
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a drug solution purification method with which it is possible to obtain a drug solution exhibiting excellent impairment suppression performance. The drug solution purification method according to the present invention is for obtaining a drug solution through filtration of a to-be-purified material containing an organic solvent by using two or more types of filters having different pore sizes, wherein P1>P2 is satisfied between a supply pressure P1 of the to-be-purified material applied to a filter Fmax having the largest pore size X1 among the two or more types of filters and a supply pressure P2 of the to-be-purified material applied to a filter Fmin having the smallest pore size X2 among the two or more types of filters.
(FR) La présente invention aborde la question de fournir une méthode de purification d'une solution médicamenteuse avec laquelle il est possible d'obtenir une solution médicamenteuse présentant d'excellentes performances d'élimination des dégradations. Selon la présente invention, la méthode de purification de la solution médicamenteuse consiste à obtenir une solution médicamenteuse par filtration d'une matière à purifier contenant un solvant organique en utilisant deux ou plusieurs types de filtres ayant différentes tailles de pores, dans laquelle P1>P2 est satisfaite entre une pression d'alimentation P1 du matériau à purifier appliquée à un filtre Fmax ayant la plus grande taille de pores X1 parmi deux ou plusieurs types de filtres et une pression d'alimentation P2 un matériau à être purifié appliquée sur un filtre Fmin ayant la plus petite taille de pores X2 parmi les deux ou plusieurs types de filtres.
(JA) 本発明は、優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる、薬液の精製方法の提供を課題とする。本発明の薬液の精製方法は、孔径が異なる2種以上のフィルタを用いて、有機溶剤を含有する被精製物をろ過して薬液を得る、薬液の精製方法であって、2種以上のフィルタのうちの最大の孔径Xを有するフィルタFmaxに対する被精製物の供給圧力Pと、2種以上のフィルタのうちの最小の孔径Xを有するフィルタFminに対する被精製物の供給圧力Pとが、P>Pを満たす。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)