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1. (WO2019044850) 部品および半導体製造装置
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国際公開番号: WO/2019/044850 国際出願番号: PCT/JP2018/031817
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 28.08.2018
IPC:
H01L 21/3065 (2006.01) ,C23C 14/08 (2006.01) ,C23C 14/28 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
08
酸化物
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
28
波動エネルギーまたは粒子放射によるもの
出願人:
学校法人 芝浦工業大学 SHIBAURA INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都江東区豊洲三丁目7番5号 7-5, Toyosu 3-chome, Koto-ku, Tokyo 1358548, JP
東芝マテリアル株式会社 TOSHIBA MATERIALS CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 8, Shinsugita-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2358522, JP
発明者:
湯本 敦史 YUMOTO Atsushi; JP
菅野 智広 SUGANO Tomohiro; JP
日野 高志 HINO Takashi; JP
井上 哲夫 INOUE Tetsuo; JP
齋藤 秀一 SAITO Shuichi; JP
代理人:
特許業務法人サクラ国際特許事務所 SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; 東京都千代田区内神田一丁目18番14号 ヨシザワビル Yoshizawa Bldg., 18-14, Uchikanda 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047, JP
優先権情報:
2017-16852401.09.2017JP
発明の名称: (EN) COMPONENT AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS
(FR) COMPOSANT ET APPAREIL DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 部品および半導体製造装置
要約:
(EN) This component is provided with a film that contains yttrium oxide. A cross-sectional surface of the film has a first portion, a second portion and a third portion; and the first to third portions are away from each other by 0.5 mm or more. The Vickers hardness B1 measured in the first portion, the Vickers hardness B2 measured in the second portion, the Vickers hardness B3 measured in the third portion, and the average A of the Vickers hardnesses B1 to B3 respectively have values that satisfy 0.8A ≤ B1 ≤ 1.2A, 0.8A ≤ B2 ≤ 1.2A and 0.8A ≤ B3 ≤ 1.2A.
(FR) L'invention concerne un composant comprenant un film qui contient de l'oxyde d'yttrium. Une surface de section transversale du film a une première partie, une seconde partie et une troisième partie ; et les première à troisième parties sont éloignées les unes des autres d'au minimum 0,5 mm. La dureté Vickers B1 mesurée dans la première partie, la dureté Vickers B2 mesurée dans la seconde partie, la dureté Vickers B3 mesurée dans la troisième partie, et la moyenne A des duretés Vickers B1 à B3 ont respectivement des valeurs qui satisfont à 0,8A ≤ B1 ≤ 1,2A, 0,8A ≤ B2 ≤ 1,2A et 0,8A ≤ B3 ≤ 1,2A
(JA) 部品は、酸化イットリウムを含む膜を具備する。膜の断面は、第1の箇所と、第2の箇所と、第3の箇所と、を有し、第1ないし第3の箇所が互いに0.5mm以上離れている。第1の箇所で測定されるビッカース硬さB1、第2の箇所で測定されるビッカース硬さB2、第3の箇所で測定されるビッカース硬さB3、およびビッカース硬さB1ないしB3の平均値Aは、それぞれ0.8A≦B1≦1.2A、0.8A≦B2≦1.2A、および0.8A≦B3≦1.2Aを満足する数である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)