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1. (WO2019044840) 透明導電膜付基板の製造方法、透明導電膜付基板及び太陽電池
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国際公開番号: WO/2019/044840 国際出願番号: PCT/JP2018/031781
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 28.08.2018
IPC:
H01B 13/00 (2006.01) ,B23K 26/00 (2014.01) ,B23K 26/351 (2014.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 38/18 (2006.01) ,H01B 5/14 (2006.01) ,H05K 3/08 (2006.01) ,H01L 31/0224 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
13
導体またはケーブルを製造するために特に使用する装置または方法
B 処理操作;運輸
23
工作機械;他に分類されない金属加工
K
ハンダ付またはハンダ離脱;溶接;ハンダ付または溶接によるクラッドまたは被せ金;局部加熱による切断,例.火炎切断:レーザービームによる加工
26
レーザービームによる加工,例.溶接,切断,穴あけ
[IPC code unknown for B23K 26/351]
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
38
積層過程に伴う付随的操作
18
層または積層体の取扱い
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5
形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14
絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
02
導電性物質が絶縁支持部材の表面に施されその後電流の伝導や遮へいのために使わない部分が表面から取り除かれるもの
08
導電性物質が放電によって取り除かれるもの,例.火花放電の侵食
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31
赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
02
細部
0224
電極
出願人:
古河電気工業株式会社 FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008322, JP
発明者:
岩間 真木 IWAMA, Masaki; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-16474329.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE EQUIPPED WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SUBSTRATE EQUIPPED WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND SOLAR CELL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, ET CELLULE SOLAIRE
(JA) 透明導電膜付基板の製造方法、透明導電膜付基板及び太陽電池
要約:
(EN) Provided is a method for manufacturing a substrate equipped with a transparent conductive film, wherein a sub-nanosecond to nanosecond laser beam is emitted on a transparent conductive film formed on the surface of a substrate so as to form a laser-induced periodic surface structure having a protruding and recessed shape in at least a portion of the transparent conductive film. Preferably, the fluence of the sub-nanosecond to nanosecond laser beam is controlled such that at least a portion of the sub-nanosecond to nanosecond laser beam has a fluence value that falls between a fluence with which it is possible to remove the transparent conductive film and a fluence with which it is impossible to remove the transparent conductive film.
(FR) Cette invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat équipé d'un film conducteur transparent. Selon ledit procédé, un faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde est émis sur un film conducteur transparent formé sur la surface d'un substrat de manière à former une structure de surface périodique induite par laser ayant une forme à saillies et à évidements dans au moins une partie du film conducteur transparent. De préférence, la fluence du faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde est commandée de telle sorte qu'au moins une partie du faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde a une valeur de fluence qui se situe entre une fluence avec laquelle il est possible d'éliminer le film conducteur transparent et une fluence avec laquelle il est impossible d'éliminer le film conducteur transparent.
(JA) 透明導電膜付基板の製造方法であって、サブナノ-ナノ秒レーザ光を、基板の表面に形成された透明導電膜に照射して、前記透明導電膜の少なくとも一部に、凹凸形状のレーザ誘起周期表面構造を形成する。好ましくは、前記透明導電膜での照射面における、前記サブナノ-ナノ秒レーザ光のビームの少なくとも一部が、前記透明導電膜を除去できるフルエンスと前記透明導電膜を除去できないフルエンスとの間の値となるように、前記サブナノ-ナノ秒レーザ光のフルエンスを制御する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)