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1. (WO2019044757) ガラスのエッチング方法及びエッチング処理装置並びにガラス板
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国際公開番号: WO/2019/044757 国際出願番号: PCT/JP2018/031547
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 27.08.2018
IPC:
C03C 15/00 (2006.01)
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
出願人:
日本電気硝子株式会社 NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP/JP]; 滋賀県大津市晴嵐2丁目7番1号 7-1, Seiran 2-chome, Otsu-shi, Shiga 5208639, JP
発明者:
坂出 喜之 SAKADE Yoshiyuki; JP
中堀 宏亮 NAKAHORI Hiroaki; JP
乾 武志 INUI Takeshi; JP
代理人:
城村 邦彦 SHIROMURA Kunihiko; JP
熊野 剛 KUMANO Tsuyoshi; JP
山本 淳也 YAMAMOTO Junya; JP
優先権情報:
2017-16702631.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR ETCHING GLASS, ETCHING TREATMENT DEVICE AND GLASS SHEET
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE DE VERRE, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE GRAVURE ET FEUILLE DE VERRE
(JA) ガラスのエッチング方法及びエッチング処理装置並びにガラス板
要約:
(EN) A method for etching a glass which comprises etching step S2 for performing an etching treatment by immersing glass G in etching solution E. In etching step S2, the etching treatment is performed by flowing etching solution E relative to the surface MS of glass G.
(FR) L'invention concerne un procédé de gravure d'un verre qui comprend une étape de gravure S2 pour réaliser un traitement de gravure par immersion du verre G dans la solution de gravure E. Lors de l'étape de gravure S2, le traitement de gravure est effectué par écoulement d'une solution de gravure E par rapport à la surface MS du verre G.
(JA) ガラスのエッチング方法は、ガラスGをエッチング液Eに浸漬してエッチング処理を行うエッチング工程S2を備える。エッチング工程S2は、エッチング液EをガラスGの表面MSと相対的に流動させることにより、エッチング処理を行う。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)