このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019044702) 平版印刷版原版
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/044702 国際出願番号: PCT/JP2018/031362
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 24.08.2018
IPC:
B41N 3/03 (2006.01) ,B41N 1/08 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/023 (2006.01) ,G03F 7/09 (2006.01) ,G03F 7/095 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
3
印刷版の使用準備または保存
03
化学的または電気的前処理
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
04
金属
08
平版印刷用
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
022
キノンジアジド
023
高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
095
2つ以上の感光層をもつもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
佐藤 尚志 SATO Takashi; JP
松浦 睦 MATSUURA Atsushi; JP
代理人:
特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2017-16785631.08.2017JP
発明の名称: (EN) LITHOGRAPHIC PRINTNG PLATE PRECURSOR
(FR) PRÉCURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版
要約:
(EN) To provide a lithographic printing plate precursor which has an aluminum support having an anodized film and a positive image recording layer. The anodized film has a thickness ranging from 200 nm to 2,000 nm. The anodized film has micropores each extending in the depth direction from the positive image recording layer side surface. Each micropore has a large diameter pore part (i) extending from the anodized film surface to a location exceeding 60 nm in depth and a small diameter pore part (ii) communicating with the bottom of the large diameter pore part and extending further in the depth direction from the communication position. The average diameter of the small diameter pore part (ii) at the communication position is smaller than the average diameter of the large diameter pore part (i) on the anodized film surface.
(FR) L'invention a pour objectif de fournir un précurseur de plaque d'impression lithographique qui a un support en aluminium ayant un film anodisé et une couche d'enregistrement d'image positive. Le film anodisé a une épaisseur comprise entre 200 nm et 2 000 nm. Le film anodisé a des micropores qui s'étendent chacun dans la direction de la profondeur à partir de la surface côté couche d'enregistrement d'image positive. Chaque micropore a une partie pore de grand diamètre (i) s'étendant à partir de la surface de film anodisé jusqu'à un emplacement dépassant 60 nm en profondeur et une partie pore de petit diamètre (ii) communiquant avec le fond de la partie pore de grand diamètre et s'étendant plus loin dans la direction de profondeur à partir de la position de communication. Le diamètre moyen de la partie pore de petit diamètre (ii) au niveau de la position de communication est inférieur au diamètre moyen de la partie pore de grand diamètre (i) sur la surface de film anodisé.
(JA) 陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体と、ポジ型画像記録層とを有する平版印刷版原版であって、上記陽極酸化皮膜の厚さは、200nm~2,000nmであり、上記陽極酸化皮膜は、上記ポジ型画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ60nmを超える位置までのびる大径孔部(i)と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置からさらに深さ方向にのびる小径孔部(ii)とを有し、上記連通位置における上記小径孔部(ii)の平均径が、上記陽極酸化皮膜表面における上記大径孔部(i)の平均径よりも小さい平版印刷版原版を提供する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)