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1. (WO2019044700) 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
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国際公開番号: WO/2019/044700 国際出願番号: PCT/JP2018/031360
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 24.08.2018
IPC:
B41N 1/14 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
阪口 彬 SAKAGUCHI Akira; JP
坂本 裕貴 SAKAMOTO Yuki; JP
藤田 光宏 FUJITA Mitsuhiro; JP
難波 優介 NAMBA Yusuke; JP
代理人:
特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2017-16590830.08.2017JP
2018-08878102.05.2018JP
2018-14286930.07.2018JP
発明の名称: (EN) ON-PRESS DEVELOPING TYPE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR AND METHOD FOR MAKING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PRÉCURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE DE TYPE À DÉVELOPPEMENT À LA PRESSE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 機上現像型平版印刷版原版、及び平版印刷版の作製方法
要約:
(EN) The invention provides an on-press developing type lithographic printing plate precursor and a method for making a lithographic printing plate using the lithographic printing plate precursor. The on-press developing type lithographic printing plate precursor has an image recording layer on an aluminum support having an anodized film. The lithographic plate precursor has an end with a sagging shape. The image recording layer can adsorb to the support and contains a compound with a molecular weight of not more than 1,000 and with no unsaturated double bond groups in the molecule. The content of the compound is substantially uniform in the plane of the image recording layer.
(FR) L'invention concerne un précurseur de plaque d'impression lithographique de type à développement à la presse et un procédé de fabrication d'une plaque d'impression lithographique à l'aide du précurseur de plaque d'impression lithographique. Le précurseur de plaque d'impression lithographique de type à développement à la presse a une couche d'enregistrement d'image sur un support en aluminium ayant un film anodisé. Le précurseur de plaque lithographique a une extrémité ayant une forme d'affaissement. La couche d'enregistrement d'image peut être adsorbée par le support et contient un composé ayant un poids moléculaire inférieur ou égal à 1000 et sans groupes de double liaison insaturée dans la molécule. La teneur du composé est sensiblement uniforme dans le plan de la couche d'enregistrement d'image.
(JA) 本発明は、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体上に、画像記録層を有する機上現像型平版印刷版原版であって、上記平版印刷版原版の端部がダレ形状を有し、上記画像記録層が支持体吸着性を有し、分子量が1,000以下であり、分子中に不飽和二重結合基を有さない化合物を含有し、上記化合物の含有量が上記画像記録層の面内において実質的に同じである機上現像型平版印刷版原版、及び、上記平版印刷版原版を用いる平版印刷版の作製方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)