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1. (WO2019044566) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
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国際公開番号: WO/2019/044566 国際出願番号: PCT/JP2018/030704
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 20.08.2018
IPC:
B41N 1/14 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/028 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
荒木 健次郎 ARAKI, Kenjiro; JP
石川 静 ISHIKAWA, Shizuka; JP
村上 平 MURAKAMI, Taira; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-16743431.08.2017JP
発明の名称: (EN) LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE ORIGINAL PLATE, METHOD FOR FABRICATING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE, AND LITHOGRAPHIC PRINTING METHOD
(FR) PLAQUE ORIGINALE DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE, ET PROCÉDÉ D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷方法
要約:
(EN) A lithographic printing plate original plate, a method for manufacturing the same, and a lithographic printing method using the lithographic printing plate original plate, lithographic printing plate original plate having an image recording layer as the outermost surface layer thereof on a support, the image recording layer including a hydrophilic polymer, cutting by an Ar gas cluster ion beam method being performed toward the support from the surface of the image recording layer, the ion intensity derived from the hydrophilic polymer as measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry having a maximum value of I1, the ratio d0/d1 of the thickness d0 of the image recording layer to the depth d1 from the outermost layer at which the value I1 is obtained being 2.0 or greater, and the ratio I1/I0 of the value I1 to the ion intensity I0 derived from the hydrophilic polymer at the depth d0 from the outermost layer being 1.5 or greater.
(FR) L'invention concerne une plaque originale de plaque d'impression lithographique, son procédé de fabrication, et un procédé d'impression lithographique mettant en œuvre la plaque originale de plaque d'impression lithographique. La plaque originale de plaque d'impression lithographique comporte une couche d'impression d'image en tant que couche de surface la plus externe sur un support, la couche d'impression d'image comprenant un polymère hydrophile ; la découpe au moyen d'un procédé par faisceau ionique d’amas gazeux Ar est effectuée vers le support à partir de la surface de la couche d'impression d'image, l'intensité ionique dérivée du polymère hydrophile telle que mesurée par spectrométrie de masse d'ions secondaires à temps de vol ayant une valeur maximale d'I1, le rapport d0/d1 entre l'épaisseur d0 de la couche d'impression d'image et la profondeur d1 à partir de la couche la plus externe au niveau de laquelle la valeur I1 est obtenue étant supérieur ou égal à 2,0, et le rapport I1/I0 entre la valeur I1 et l'intensité ionique I0 dérivée du polymère hydrophile à la profondeur d0 de la couche la plus externe étant supérieur ou égal à 1,5.
(JA) 支持体上に、最表面層として画像記録層を有し上記画像記録層が、親水性ポリマーを含み、画像記録層表面から支持体方向にArガスクラスターイオンビーム法により切削を行い、飛行時間型二次イオン質量分析法により測定された上記親水性ポリマーに由来するイオン強度が、最大値I1を有し、上記I1が得られる最外層からの深さd1に対する、画像記録層の厚さd0の比d0/d1が、2.0以上であり、最外層からの深さが上記d0における上記親水性ポリマーに由来するイオン強度I0に対する、上記I1の比I1/I0が、1.5以上である平版印刷版原版及びその製造方法並びに上記平版印刷版原版を用いた平版印刷方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)