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1. (WO2019044483) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
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国際公開番号: WO/2019/044483 国際出願番号: PCT/JP2018/030245
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 13.08.2018
IPC:
B41N 1/14 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/11 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
14
平版印刷フォイル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
工藤 康太郎 KUDO, Kotaro; JP
森田 佳樹 MORITA, Yoshiki; JP
舩津 景勝 FUNATSU, Keisho; JP
村上 平 MURAKAMI, Taira; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-16743331.08.2017JP
発明の名称: (EN) LITHOGRAPHIC PRINTING ORIGINAL PLATE AND METHOD FOR PRODUCING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE
(JA) 平版印刷版原版、及び、平版印刷版の作製方法
要約:
(EN) Provided are a lithographic printing original plate having an image recording layer provided on a support, and a method for producing a lithographic printing plate using the lithographic printing original plate, wherein the lithographic printing original plate has convex portions formed discontinuously on the outermost layer surface on a side of the original plate in which the image recording layer is provided, and the convex portions have a melting point of 70°C to 150°C. The method for producing the lithographic printing plate preferably includes: a step for forming an exposed portion and an unexposed portion by imagewise exposing the lithographic printing original plate; and a step for removing a non-image portion and the unexposed portion by supplying at least one from among printing ink and dampening water.
(FR) L'invention concerne une plaque originale d'impression lithographique ayant une couche d'enregistrement d'image disposée sur un support, et un procédé de production d'une plaque d'impression lithographique à l'aide de la plaque originale d'impression lithographique, la plaque originale d'impression lithographique ayant des parties convexes formées de manière discontinue sur la surface de couche la plus à l'extérieur sur un côté de la plaque originale dans laquelle est fournie la couche d'enregistrement d'image, et les parties convexes ont un point de fusion de 70 °C à 150 °C. Le procédé de production de la plaque d'impression lithographique comprend de préférence : une étape consistant à former une partie exposée et une partie non exposée par exposition en image de la plaque originale d'impression lithographique; et une étape consistant à retirer une partie de non-image et la partie non exposée en fournissant au moins l'une parmi l'encre d'impression et l'eau de mouillage.
(JA) 支持体上に画像記録層を設けた平版印刷版原版であって、上記画像記録層が設けられた側の最外層の表面に非連続状に形成された凸部を有し、上記凸部の融点が、70℃~150℃である平版印刷版原版、及び、上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法。上記平版印刷版の作製方法として、好ましくは、平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する工程、及び、印刷インキ及び湿し水の少なくとも一方を供給して非画像部上記未露光部を除去する工程を含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)