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1. (WO2019044369) 耐摩耗性に優れた感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/044369 国際出願番号: PCT/JP2018/029078
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 02.08.2018
IPC:
C08F 297/04 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
297
中間重合体を脱活性化することなくイオン触媒または配位触媒を用い,異なる単量体を連続して使用する重合によって得られる高分子化合物
02
アニオン触媒を用いるもの
04
ビニル芳香族単量体と共役ジエンとの重合によるもの
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
出願人:
ジェイエスアール クレイトン エラストマー株式会社 KRATON JSR ELASTOMERS K.K. [JP/JP]; 東京都港区港南2丁目16番2号 太陽生命品川ビル9階 Taiyoseimeishinagawa Bldg. 9F, 2-16-2 Konan, Minato-ku, Tokyo 1080075, JP
発明者:
鳥居 政俊 TORII Masatoshi; JP
山本 慎吾 YAMAMOTO Shingo; JP
藤▲崎▼ 光 FUJISAKI Hikaru; JP
代理人:
特許業務法人川口國際特許事務所 KAWAGUTI & PARTNERS; 東京都新宿区北新宿二丁目21番1号新宿フロントタワー20階 Shinjuku Front Tower 20F, 2-21-1 Kita-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1690074, JP
優先権情報:
2017-16399829.08.2017JP
発明の名称: (EN) BLOCK COPOLYMER FOR PHOTOSENSITIVE PRINTING PLATE MATERIAL HAVING EXCELLENT ABRASION RESISTANCE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COPOLYMÈRE SÉQUENCÉ POUR MATÉRIAU DE PLAQUE D'IMPRESSION PHOTOSENSIBLE AYANT UNE EXCELLENTE RÉSISTANCE À L'ABRASION ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 耐摩耗性に優れた感光性印刷版材用ブロック共重合体及びその製造方法
要約:
(EN) Provided is a flexographic printing plate having improved abrasion resistance in addition to the moderate elasticity (softness) required for a flexographic printing plate. The present invention is a block copolymer for a photosensitive printing plate material that is a block copolymer comprising a polymer block composed mainly of at least two aromatic vinyl monomers and a polymer block composed mainly of at least one conjugated diene monomer, wherein the aromatic vinyl monomer introduced into the polymer block composed mainly of a conjugated diene block is 25-50 mass% of the total bonded aromatic vinyl monomer content in the block copolymer.
(FR) L'invention concerne une plaque d'impression flexographique présentant une résistance à l'abrasion améliorée en plus de l'élasticité modérée (souplesse) requise pour une plaque d'impression flexographique. La présente invention concerne un copolymère séquencé pour un matériau de plaque d'impression photosensible qui est un copolymère séquencé comprenant un bloc polymère composé principalement d'au moins deux monomères vinyliques aromatiques et un bloc polymère composé principalement d'au moins un monomère diène conjugué, le monomère vinylique aromatique introduit dans le bloc polymère composé principalement d'un bloc de diène conjugué représentant de 25 à 50 % en masse du contenu total de monomère vinylique aromatique lié dans le copolymère séquencé.
(JA) フレキソ印刷版に要求される適度な弾性(柔らかさ)に加えて、改善された耐摩耗性を備えたフレキソ印刷版を提供する。本発明は、少なくとも2個の芳香族ビニル単量体を主体とする重合体ブロックと、少なくとも1個の共役ジエン単量体を主体とする重合体ブロックからなるブロック共重合体であって、該共役ジエンブロックを主体とする重合体ブロックに導入された芳香族ビニル単量体が該ブロック共重合体中の全結合芳香族ビニル単量体含有量の25~50重量%である感光性印刷版材用ブロック共重合体である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)