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1. (WO2019044339) 電極フィルムおよびその製造方法
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国際公開番号: WO/2019/044339 国際出願番号: PCT/JP2018/028740
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 31.07.2018
IPC:
H01B 5/14 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,G06F 3/041 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
B
ケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5
形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14
絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
G 物理学
06
計算;計数
F
電気的デジタルデータ処理
3
計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01
ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03
器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041
変換手段よって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人:
NISSHA株式会社 NISSHA CO.,LTD. [JP/JP]; 京都府京都市中京区壬生花井町3番地 3, Mibu Hanai-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048551, JP
発明者:
面 了明 Omote, Ryomei; JP
西川 和宏 Nishikawa, Kazuhiro; JP
寺谷 和臣 Teratani, Kazuomi; JP
坂田 喜博 Sakata, Yoshihiro; JP
西村 剛 Nishimura, Takeshi; JP
砂走 孝邦 Sunahase, Takakuni; JP
優先権情報:
2017-16607430.08.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTRODE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM D'ÉLECTRODE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電極フィルムおよびその製造方法
要約:
(EN) [Problem] To provide an electrode film that is excellent in mesh pattern invisibility and image visibility, and a method for manufacturing the same. [Solution] A method for manufacturing an electrode film comprising: a step for sequentially stacking a metal layer and a black photoresist layer on a first principal surface of a transparent substrate; a step for partially exposing, developing, and patterning in a mesh shape the black photoresist layer; a step for processing the metal layer into a metal mesh electrode by, using the patterned black photoresist layer as an etching mask, etching the metal layer until the width thereof becomes smaller than the width of thin lines constituting a mesh of the black photoresist layer; and a step for softening the black photoresist layer by heating, and thereby covering not only the upper surface but also both side surfaces of each of thin lines constituting a mesh of the metal mesh electrode with a flap of the softened black photoresist layer.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un film d'électrode qui est excellent en termes d'invisibilité de motif de maillage et de visibilité d'image, et son procédé de fabrication. La solution selon l'invention concerne un procédé de fabrication d'un film d'électrode comprenant : une étape d'empilement séquentiel d'une couche métallique et d'une couche de résine photosensible noire sur une première surface principale d'un substrat transparent; une étape d'exposition partielle, de développement et de formation de motifs dans une forme de maille de la couche de résine photosensible noire; une étape de traitement de la couche métallique en une électrode à mailles métalliques par, à l'aide de la couche de résine photosensible noire à motifs en tant que masque de gravure, graver la couche métallique jusqu'à ce que sa largeur devienne plus petite que la largeur de lignes minces constituant un maillage de la couche de résine photosensible noire; et une étape pour ramollir la couche de résine photosensible noire par chauffage, et recouvrant ainsi non seulement la surface supérieure mais également les deux surfaces latérales de chacune des lignes fines constituant un maillage de l'électrode à mailles métalliques avec un rabat de la couche de résine photosensible noire ramollie.
(JA) 【課題】 メッシュパターンの不可視性および画像の視認性に優れた、電極フィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 電極フィルムの製造方法は、透明基材の第一主面上に金属層、黒色フォトレジスト層を順次積層する工程と、前記黒色フォトレジスト層を部分的に露光し、現像してメッシュ形状にパターニングする工程と、パターニングされた前記黒色フォトレジスト層をエッチングマスクとして、前記黒色フォトレジスト層のメッシュを構成する細線幅より小幅となるまで前記金属層をエッチングして金属メッシュ電極に加工する工程と、前記黒色フォトレジスト層を加熱して軟化させ、軟化した前記黒色フォトレジスト層の垂れにより前記金属メッシュ電極のメッシュを構成する細線の上面のみならず両側面まで被覆させる工程と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)