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1. (WO2019044277) カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタ
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国際公開番号: WO/2019/044277 国際出願番号: PCT/JP2018/027631
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 24.07.2018
IPC:
G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1335
セルと光学部材,例.偏光子,反射鏡,の構造的組合せ
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
小泉 宙夢 KOIZUMI Hiromu; JP
尾田 和也 OTA Kazuya; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2017-16550430.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE, AND COLOR FILTER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILTRE COLORÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ET FILTRE COLORÉ
(JA) カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタ
要約:
(EN) The present invention provides a method which is for manufacturing a color filter and with which pattern formability of pixels is good and the generation of residue on another pixel after pixel formation and the generation of color migration between adjacent pixels can be inhibited. The present invention further provides a method for manufacturing a solid-state imaging element, a method for manufacturing an image display device, and a color filter. This method for manufacturing a color filter includes: a step for applying a transparent layer forming composition on the surface of a first pixel 2 formed on a support body 1, and forming a transparent layer 3 having an average thickness of no more than 300 nm; a step for applying a pixel forming composition on the first pixel 2 having the transparent layer 3 formed thereon, and forming a composition layer 4a for pixel formation; and a step for forming a pattern on the composition layer 4a for pixel formation and forming a second pixel 4 having a different color than the first pixel 2.
(FR) La présente invention concerne un procédé qui permet de fabriquer un filtre coloré et au moyen duquel l'aptitude à la formation de motifs de pixels est bonne, la génération de résidus sur un autre pixel après la formation de pixels et la génération de migration de couleur entre des pixels adjacents pouvant être inhibées. La présente invention concerne en outre un procédé de fabrication d'un élément d'imagerie à semi-conducteurs, un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage d'image et un filtre coloré. Ce procédé de fabrication d'un filtre coloré comprend les étapes suivantes : l'application d'une composition de formation de couche transparente sur la surface d'un premier pixel (2) formé sur un corps de support (1), et la formation d'une couche transparente (3) ayant une épaisseur moyenne inférieure ou égale à 300 nm ; l'application d'une composition de formation de pixels sur le premier pixel (2) ayant la couche transparente (3) formée dessus, et la formation d'une couche de composition (4a) destinée à la formation de pixels ; la formation d'un motif sur la couche de composition (4a) destinée à la formation de pixels et la formation d'un second pixel (4) ayant une couleur différente de celle du premier pixel (2).
(JA) 画素のパターン形成性が良好であり、かつ、画素形成後の他の画素上の残渣の発生や、隣接する画素間における色移りの発生を抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。また、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタを提供する。このカラーフィルタの製造方法は、支持体1上に形成された第1の画素2の表面に透明層形成用組成物を適用して平均厚さ300nm以下の透明層3を形成する工程と、透明層3が形成された第1の画素2上に画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層4aを形成する工程と、画素形成用組成物層4aに対してパターン形成を行い、第1の画素2とは異なる色の第2の画素4を形成する工程とを含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)