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1. (WO2019044138) 感光性転写材料及びその製造方法、並びに、回路配線の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/044138 国際出願番号: PCT/JP2018/024071
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 25.06.2018
IPC:
G03F 7/11 (2006.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 7/06 (2006.01) ,B32B 27/18 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
02
物理的性質,例.堅さ,に関するもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7
層間の関係を特徴とする積層体,すなわち本質的に異なる物理的性質を有する層または層の相互連続を特徴とする積層体
04
層の結合を特徴とするもの
06
容易に分離できるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
18
特別な添加剤の使用を特徴とするもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
藤本 進二 FUJIMOTO, Shinji; JP
松田 知樹 MATSUDA, Tomoki; JP
石坂 壮二 ISHIZAKA, Soji; JP
篠田 克己 SASATA, Katsumi; JP
代理人:
特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 東京都新宿区新宿4丁目3番17号 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-16335528.08.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ POUR LE FABRIQUER ET PROCÉDER DE FABRICATION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料及びその製造方法、並びに、回路配線の製造方法
要約:
(EN) A positive photosensitive transfer material, a method for manufacturing same, and a method for manufacturing circuit wiring in which the photosensitive transfer material is used. In the positive photosensitive transfer material, a photosensitive resin composition layer and a UV-ray-absorbing layer are present on a temporary support body. The photosensitive resin composition layer includes a photoacid generator and a polymer A1 that has structural units having an acid group that is protected by an acid-decomposable group. The UV-ray-absorbing layer includes a polymer A2 and an organic UV-ray-absorbing agent, or includes a polymer A3 having a UV-ray-absorbing function. The glass transition temperature of the polymer A2 or the glass transition temperature of the polymer A3 included in the UV-ray-absorbing layer does not exceed 90°C.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible et positif, un procédé pour le fabriquer et un procédé de fabrication de câblage de circuit dans lequel le matériau de transfert photosensible est utilisé. Dans le matériau de transfert photosensible et positif, une couche de composition de résine photosensible et une couche absorbant les rayons UV sont présentes sur un support temporaire. La couche de composition de résine photosensible comprend un générateur photoacide et un polymère A1 qui a des motifs structuraux ayant un groupe acide qui est protégé par un groupe décomposable par un acide. La couche absorbant les rayons UV comprend soit un polymère A2 et un agent organique qui absorbe les rayons UV, soit un polymère A3 ayant une fonction d'absorption des rayons UV. La température de transition vitreuse du polymère A2 ou la température de transition vitreuse du polymère A3 inclus dans la couche absorbant les rayons UV ne dépasse pas 90°C
(JA) 仮支持体上に、感光性樹脂組成物層、及び、紫外線吸収層を有し、上記感光性樹脂組成物層が、酸分解性基で保護された酸基を有する構成単位を有する重合体A1と、光酸発生剤とを含み、上記紫外線吸収層が、有機紫外線吸収剤と重合体A2とを含むか、又は、紫外線吸収能を有する重合体A3を含み、上記紫外線吸収層に含まれる、上記重合体A2のガラス転移温度又は上記重合体A3のガラス転移温度が、90℃以下であるポジ型感光性転写材料及びその製造方法、並びに、上記感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)