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1. (WO2019043934) 基板処理装置、基板処理装置の異常監視方法、及びプログラム
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国際公開番号: WO/2019/043934 国際出願番号: PCT/JP2017/031719
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 04.09.2017
IPC:
H01L 21/02 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
出願人:
株式会社KOKUSAI ELECTRIC KOKUSAI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区神田鍛冶町三丁目4番地 3-4, Kandakaji-cho, Chiyoda-ku, TOKYO 1010045, JP
発明者:
山本 一良 YAMAMOTO Kazuyoshi; JP
浅井 一秀 ASAI Kazuhide; JP
林原 秀元 HAYASHIHARA Hidemoto; JP
福田 満 FUKUDA Mitsuru; JP
屋敷 佳代子 YASHIKI Kayoko; JP
川岸 隆之 KAWAGISHI Takayuki; JP
岩倉 裕幸 IWAKURA Hiroyuki; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, METHOD FOR MONITORING FOR ANOMALY IN SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND PROGRAM
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, PROCÉDÉ DE SURVEILLANCE D'ANOMALIE DANS UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT, ET PROGRAMME
(JA) 基板処理装置、基板処理装置の異常監視方法、及びプログラム
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a configuration for predicting an anomaly event by monitoring a change in the value of an electric current through a pump. The configuration includes: a main controller which, when a process recipe including a specific step of performing a sub-recipe is caused to be performed, causes a process control unit to perform the sub-recipe a predetermined number of times so that a substrate is subjected to a predetermined process; and a device management controller which collects device data while the process recipe is being performed, and accumulates the device data in a storage unit. The device management controller is configured to: search the storage unit having the device data accumulated therein; acquire an amount of device data in a designated step among the steps included in the sub-recipe, the amount corresponding to the number of times the sub-recipe has been performed; calculate a first standard deviation of the amount of the device data that has been acquired corresponding to the number of times; compare the calculated first standard deviation with a threshold value; and generate an alarm if the threshold value is exceeded.
(FR) La présente invention a pour objet de fournir une configuration pour prédire un événement d'anomalie en surveillant un changement de la valeur d'un courant électrique à travers une pompe. La configuration comprend : un dispositif de commande principal lequel, lorsqu'une recette de traitement comprenant une étape spécifique d'exécution d'une sous-recette est amenée à être exécutée, amène une unité de commande de traitement à exécuter la sous-recette un nombre de fois prédéterminé de telle sorte qu'un substrat est soumis à un traitement prédéterminé ; et un dispositif de commande de gestion de dispositif qui collecte des données de dispositif pendant que la recette de traitement est exécutée, et accumule les données de dispositif dans une unité de stockage. Le dispositif de commande de gestion de dispositif est configuré pour : rechercher l'unité de stockage dans laquelle sont accumulées les données de dispositif ; acquérir une quantité de données de dispositif à une étape désignée parmi les étapes incluses dans la sous-recette, la quantité correspondant au nombre de fois où la sous-recette a été exécutée ; calculer un premier écart-type de la quantité des données de dispositif qui ont été acquises en fonction du nombre de fois ; comparer le premier écart-type calculé à une valeur seuil ; et générer une alerte si la valeur seuil est dépassée.
(JA) ポンプの電流の値の変化を監視することにより、異常事象を予知する構成を提供することにある。サブレシピを実行する特定ステップを含むプロセスレシピを実行させる際に、サブレシピを処理制御部に所定回数実行させて、基板に所定の処理を施すよう制御する主コントローラと、プロセスレシピ実行中の装置データを収集し、記憶部に蓄積する装置管理コントローラと、を含む構成であって、装置管理コントローラは、装置データが蓄積された記憶部を検索し、サブレシピを構成する各ステップのうち指定ステップにおける装置データを、サブレシピの実行回数分取得し、前記実行回数分取得された前記装置データの第1標準偏差を算出し、算出した第1標準偏差を閾値と比較し、閾値を超えるとアラームを発生させるよう構成される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)