WO2019043918 電界効果トランジスタ

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1. (WO2019043918) 電界効果トランジスタ

国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号:	WO/2019/043918	国際出願番号:	PCT/JP2017/031625
国際公開日:	07.03.2019	国際出願日:	01.09.2017

IPC:

H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 21/338 (2006.01) ,H01L 29/78 (2006.01) ,H01L 29/812 (2006.01)

出願人:

三菱電機株式会社 MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目７番３号 7-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008310, JP

発明者:

渡辺　伸介 WATANABE, Shinsuke; JP

代理人:

高田　守 TAKADA, Mamoru; JP

高橋　英樹 TAKAHASHI, Hideki; JP

優先権情報:

発明の名称:

(EN) FIELD-EFFECT TRANSISTOR
(FR) TRANSISTOR À EFFET DE CHAMP
(JA) 電界効果トランジスタ

要約:

(EN) The field-effect transistor according to the present invention is provided with: a semiconductor substrate; a plurality of drain electrodes provided on a first surface of the semiconductor substrate, the drain electrodes extending in a first direction; a plurality of source electrodes arranged alternately with respect to the plurality of drain electrodes; a plurality of gate electrodes, each of which is provided between the plurality of source electrodes and the plurality of drain electrodes; an input terminal connected to the plurality of gate electrodes; an output terminal connected to the plurality of drain electrodes; and a plurality of metal layers provided to the semiconductor substrate so as to be set apart from the first surface, the metal layers extending in a second direction intersecting the first direction. The plurality of metal layers include a first metal layer, and a second metal layer that is longer than the first metal layer and intersects more drain electrodes than does the first metal layer when viewed from a direction perpendicular to the first surface. From among the plurality of drain electrodes, drain electrodes having a greater line length from the input terminal to the output terminal have more metal layers provided immediately below the drain electrodes.
(FR) La présente invention concerne un transistor à effet de champ comprenant : un substrat semi-conducteur ; une pluralité d'électrodes drain disposées sur une première surface du substrat semi-conducteur et s'étendant dans une première direction ; une pluralité d'électrodes source disposées en alternance relativement à la pluralité d'électrodes drain ; une pluralité d'électrodes grille disposées chacune entre la pluralité d'électrodes source et la pluralité d'électrodes drain ; une borne d'entrée reliée à la pluralité d'électrodes grille ; une borne de sortie reliée à la pluralité d'électrodes drain ; et une pluralité de couches métalliques disposées sur le substrat semi-conducteur de façon à être espacées de la première surface, les couches métalliques s'étendant dans une seconde direction croisant la première direction. La pluralité de couches métalliques comprennent une première couche métallique, et une seconde couche métallique qui est plus longue que la première couche métallique et qui croise plus d'électrodes drain que la première couche métallique vues depuis une direction perpendiculaire à la première surface. Certaines électrodes drain de la pluralité d'électrodes drain dont la longueur de ligne de la borne d'entrée à la borne de sortie est supérieure présentent davantage de couches métalliques disposées directement sous les électrodes drain.
(JA) 本願の発明に係る電界効果トランジスタは、半導体基板と、半導体基板の第１面に設けられ、第１方向に伸びる複数のドレイン電極と、複数のドレイン電極と互いに交互に並ぶ複数のソース電極と、複数のソース電極と複数のドレイン電極との間にそれぞれ設けられた複数のゲート電極と、複数のゲート電極と接続された入力端子と、複数のドレイン電極と接続された出力端子と、半導体基板に第１面と離れて設けられ、第１方向と交差する第２方向に伸びる複数の金属層と、を備え、複数の金属層は、第１金属層と、第１金属層よりも長く、第１面と垂直な方向から見て第１金属層よりも多くのドレイン電極と交差する第２金属層と、を含み、複数のドレイン電極のうち入力端子から出力端子までの線路長が短いドレイン電極ほど、直下に多くの金属層が設けられる。

指定国:

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)

国際公開言語:

日本語 (JA)

国際出願言語:

日本語 (JA)

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