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1. (WO2019042682) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
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国際公開番号: WO/2019/042682 国際出願番号: PCT/EP2018/070653
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 31.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
発明者:
PEREZ-FALCON, Victor, Antonio; US
CHIEDA, Michael, Andrew; US
代理人:
SLENDERS, Peter; NL
優先権情報:
62/550,78528.08.2017US
発明の名称: (EN) APPARATUS FOR AND METHOD CLEANING A SUPPORT INSIDE A LITHOGRAPHY APPARATUS
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE D'UN SUPPORT À L'INTÉRIEUR D'UN APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
要約:
(EN) Methods and systems are described for cleaning a support such as a clamp of a chuck that holds a patterning device or a wafer in a lithographic apparatus. The method includes loading a electrostatic cleaning substrate into a lithographic apparatus. The electrostatic cleaning substrate includes at least one electrode. The method further includes bringing the electrostatic cleaning substrate near to the clamping surface to be cleaned and connecting the electrode to a voltage source. Particles present on the support are then transferred to the electrostatic cleaning substrate.
(FR) La présente invention porte sur des procédés et des systèmes de nettoyage d'un support tel qu'une pince d'un mandrin qui maintient un dispositif de modélisation ou une plaquette dans un appareil lithographique. Le procédé comprend le chargement d'un substrat de nettoyage électrostatique dans un appareil lithographique. Le substrat de nettoyage électrostatique comprend au moins une électrode. Le procédé consiste en outre à amener le substrat de nettoyage électrostatique à proximité de la surface de serrage devant être nettoyée et à connecter l'électrode à une source de tension. Les particules présentes sur le support sont ensuite transférées au substrat de nettoyage électrostatique.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)