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1. (WO2019041991) A SENSING SUBSTRATE AND SENSING PANEL, DISPLAY PANEL AND DISPLAY DEVICE
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国際公開番号: WO/2019/041991 国際出願番号: PCT/CN2018/092817
国際公開日: 07.03.2019 国際出願日: 26.06.2018
IPC:
G02F 1/1362 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
136
半導体の層または基板と構造上組み合された液晶セル,例.集積回路の一部を構成するセル
1362
アクティブマトリックスセル
出願人:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No. 10, Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015, CN
発明者:
刘英明 LIU, Yingming; CN
董学 DONG, Xue; CN
王海生 WANG, Haisheng; CN
吴俊纬 WU, Chunwei; CN
丁小梁 DING, Xiaoliang; CN
许睿 XU, Rui; CN
刘伟 LIU, Wei; CN
代理人:
北京市中咨律师事务所 ZHONGZI LAW OFFICE; 中国北京市 西城区平安里西大街26号新时代大厦7层 7F, New Era Building, 26 Pinganli Xidajie, Xicheng District Beijing 100034, CN
優先権情報:
201710786474.704.09.2017CN
発明の名称: (EN) A SENSING SUBSTRATE AND SENSING PANEL, DISPLAY PANEL AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT DE DÉTECTION ET PANNEAU DE DÉTECTION, PANNEAU D'AFFICHAGE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 感测基板及感测板、显示面板和显示装置
要約:
(EN) The present invention provides a sensing substrate, and a display panel and a display device thereof. The sensing substrate comprises a substrate. A thin-film transistor and a photosensitive device layer are provided on the substrate, wherein the photosensitive device layer comprises a light-shielding portion. An orthographic projection of the light-shielding portion onto the substrate overlaps with at least a portion of an orthographic projection of an active layer of the thin-film transistor onto the substrate, and the light-shielding portion is disposed on the active layer of the thin-film transistor away from one side of a gate of the thin-film transistor.
(FR) La présente invention se rapporte à un substrat de détection, et à un panneau d'affichage et à un dispositif d'affichage associés. Le substrat de détection comprend un substrat. Un transistor en couches minces et une couche de dispositif photosensible sont disposés sur le substrat, la couche de dispositif photosensible comprenant une partie de protection contre la lumière. Une projection orthographique de la partie de protection contre la lumière sur le substrat chevauche au moins une partie d'une projection orthographique d'une couche active du transistor en couches minces sur le substrat, et la partie de protection contre la lumière est disposée sur la couche active du transistor en couches minces à l'opposé d'un côté d'une grille du transistor en couches minces.
(ZH) 提供了一种感测基板及其显示面板和显示装置。所述感测基板包括:衬底基板;位于所述衬底基板上的薄膜晶体管和光敏器件层。所述光敏器件层包括遮光部。所述遮光部在所述衬底基板上的正投影与所述薄膜晶体管的有源层在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠,且所述遮光部位于所述薄膜晶体管的所述有源层背离所述薄膜晶体管的所述栅极的一侧。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)