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1. (WO2019039563) 電荷注入層およびその製造方法、ならびに有機光電子素子およびその製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/039563 国際出願番号: PCT/JP2018/031237
国際公開日: 28.02.2019 国際出願日: 23.08.2018
IPC:
H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
AGC株式会社 AGC INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目5番1号 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405, JP
国立大学法人山形大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION YAMAGATA UNIVERSITY [JP/JP]; 山形県山形市小白川町一丁目4番12号 4-12, Kojirakawamachi 1-chome, Yamagata-shi, Yamagata 9908560, JP
発明者:
服部 繁樹 HATTORI Shigeki; JP
阿部 岳文 ABE Takefumi; JP
鶴岡 薫 TSURUOKA Kaori; JP
桑名 保宏 KUWANA Yasuhiro; JP
横山 大輔 YOKOYAMA Daisuke; JP
代理人:
泉名 謙治 SENMYO Kenji; JP
小川 利春 OGAWA Toshiharu; JP
金 鎭文 KIM Jin-Moon; JP
比企野 健 HIKINO Ken; JP
横井 大一郎 YOKOI Daiichiro; JP
優先権情報:
2017-16164024.08.2017JP
発明の名称: (EN) CHARGE INJECTION LAYER AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND ORGANIC OPTOELECTRONIC ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) COUCHE D'INJECTION DE CHARGE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET ÉLÉMENT OPTOÉLECTRONIQUE ORGANIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 電荷注入層およびその製造方法、ならびに有機光電子素子およびその製造方法
要約:
(EN) Provided are a charge injection layer and a manufacturing method therefor in which the refractive index is sufficiently low and a lack of balance in the composition of materials hardly occurs, and an organic optoelectronic element and a manufacturing method therefor. A charge injection layer including a fluorine-containing polymer and a semiconductor material, the refractive index of which in wavelength regions of 450-800 nm is 1.60 or less.
(FR) La présente invention concerne une couche d’injection de charge et son procédé de fabrication, dans laquelle l’indice de réfraction est suffisamment faible et un manque d’équilibre dans la composition de matériaux se produit difficilement, et un élément optoélectronique organique et son procédé de fabrication. Une couche d’injection de charge comprenant un polymère contenant du fluor et un matériau semi-conducteur, dont l’indice de réfraction dans des régions de longueur d’onde de 450 à 800 nm est de 1,60 ou moins.
(JA) 屈折率が充分に低く、材料の組成に偏りが生じ難い電荷注入層およびその製造方法、ならびに有機光電子素子およびその製造方法を提供する。 含フッ素重合体および半導体材料を含み、波長域450nm~800nmにおける屈折率が1.60以下である電荷注入層。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)