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1. (WO2019039342) 窒化ガリウム基板、自立基板および機能素子
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国際公開番号: WO/2019/039342 国際出願番号: PCT/JP2018/030222
国際公開日: 28.02.2019 国際出願日: 13.08.2018
IPC:
C30B 29/38 (2006.01) ,C30B 19/02 (2006.01) ,H01L 33/32 (2010.01)
C 化学;冶金
30
結晶成長
B
単結晶成長;共晶物質の一方向固化または共析晶物質の一方向析出;物質のゾーンメルティングによる精製;特定構造を有する均質多結晶物質の製造;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質の後処理;そのための装置
29
材料または形状によって特徴づけられた単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質
10
無機化合物または組成物
38
窒化物
C 化学;冶金
30
結晶成長
B
単結晶成長;共晶物質の一方向固化または共析晶物質の一方向析出;物質のゾーンメルティングによる精製;特定構造を有する均質多結晶物質の製造;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質の後処理;そのための装置
19
液相エピタキシャル成長
02
溶融溶媒を用いるもの,例.フラックス
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
33
光の放出に特に適用される少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する半導体装置;それらの装置またはその部品の製造,あるいは処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
02
半導体素子本体に特徴のあるもの
26
発光領域の材料
30
III族およびV族元素のみを有するもの
32
窒素を含むもの
出願人:
日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP
発明者:
磯田 佳範 ISODA Yoshinori; JP
平尾 崇行 HIRAO Takayuki; JP
中西 宏和 NAKANISHI Hirokazu; JP
市村 幹也 ICHIMURA Mikiya; JP
下平 孝直 SHIMODAIRA Takanao; JP
坂井 正宏 SAKAI Masahiro; JP
吉野 隆史 YOSHINO Takashi; JP
代理人:
細田 益稔 HOSODA Masutoshi; JP
青木 純雄 AOKI Sumio; JP
優先権情報:
2018-06101128.03.2018JP
PCT/JP2017/03037324.08.2017JP
PCT/JP2017/03403521.09.2017JP
発明の名称: (EN) GALLIUM NITRIDE SUBSTRATE, SELF-SUPPORTING SUBSTRATE, AND FUNCTIONAL ELEMENT
(FR) SUBSTRAT À BASE DE NITRURE DE GALLIUM, SUBSTRAT AUTOPORTANT, ET ÉLÉMENT FONCTIONNEL
(JA) 窒化ガリウム基板、自立基板および機能素子
要約:
(EN) This gallium nitride substrate is provided with an upper surface and a bottom surface. When observed using cathode luminescence, the upper surface has: a linear high luminance light emission portion; and a low luminance light emission region disposed next to the high luminance light emission portion. The elastic constant C11 is in the range of 200-290 GPa inclusive.
(FR) L’invention concerne un substrat à base de nitrure de gallium pourvu d'une surface supérieure et d'une surface inférieure. Lorsqu'elle est observée à l'aide d'une luminescence de cathode, la surface supérieure présente une partie d'émission de lumière à luminance élevée linéaire ; et une région d'émission de lumière à faible luminance disposée à côté de la partie d'émission de lumière à luminance élevée. La constante élastique C11 se situe dans la plage de 200-290 GPa inclus.
(JA) 窒化ガリウム基板は、上面及び底面を有する。上面をカソードルミネッセンスによって観測したときに、線状の高輝度発光部と、前記高輝度発光部に隣接する低輝度発光領域とを有しており、弾性定数C11が200GPa以上、290GPa以下である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)