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1. (WO2019039316) 基板処理装置及び基板搬送方法
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国際公開番号: WO/2019/039316 国際出願番号: PCT/JP2018/030037
国際公開日: 28.02.2019 国際出願日: 10.08.2018
IPC:
H01L 21/677 (2006.01) ,H01L 21/31 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
廣木 勤 HIROKI, Tsutomu; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-16033123.08.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRANSFERT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置及び基板搬送方法
要約:
(EN) A load lock chamber comprises: a plurality of stages on which a plurality of first substrates that are loaded at once by means of a second transfer mechanism are respectively mounted; a moving mechanism which, in a state in which the plurality of first substrates are respectively mounted on the plurality of stages, moves the plurality of stages to narrow the interval between the plurality of stages; and a rotating mechanism which, when the plurality of first substrates are unloaded one by one by means of a first transfer mechanism, rotates the plurality of stages with the narrowed interval about an axis, and causes the plurality of first substrates successively to become closer to the first transfer mechanism around the axis.
(FR) Une chambre de verrouillage de charge comprend : une pluralité d'étages sur lesquels sont respectivement montés une pluralité de premiers substrats qui sont chargés à la fois au moyen d'un second mécanisme de transfert ; un mécanisme de déplacement qui, dans un état dans lequel la pluralité de premiers substrats sont respectivement montés sur la pluralité d'étages, déplace la pluralité d'étages pour réduire l'intervalle entre la pluralité d'étages ; et un mécanisme de rotation qui, lorsque la pluralité de premiers substrats sont déchargés un par un au moyen d'un premier mécanisme de transfert, fait tourner la pluralité d'étages avec l'intervalle rétréci autour d'un axe, et amène la pluralité de premiers substrats à se rapprocher successivement du premier mécanisme de transfert autour de l'axe.
(JA) ロードロック室は、第2の搬送機構によって一括で搬入される複数の第1の基板がそれぞれ載置される複数のステージと、複数の第1の基板が複数のステージにそれぞれ載置された状態で、複数のステージを移動させて複数のステージの間隔を狭める移動機構と、第1の搬送機構によって複数の第1の基板が1枚ずつ搬出される場合に、間隔が狭められた複数のステージを軸線を中心に回転させて、軸線の周囲において複数の第1の基板を第1の搬送機構へ順次接近させる回転機構とを有する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)