このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019038883) 荷電粒子線装置およびそれを用いた観察方法、元素分析方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/038883 国際出願番号: PCT/JP2017/030330
国際公開日: 28.02.2019 国際出願日: 24.08.2017
IPC:
H01J 37/05 (2006.01) ,G01N 23/225 (2006.01) ,H01J 37/22 (2006.01) ,H01J 37/244 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
04
電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
05
電子またはイオンをそれらのエネルギーに応じて分離するための電子光学的またはイオン光学的装置
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22
二次放射の測定によるもの
225
電子またはイオンマイクロプローブを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
22
管と関連した光学または写真装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02
細部
244
検出器;関連の構成要素またはそのための回路
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
26
電子またはイオン顕微鏡;電子またはイオン回折管
28
走査ビームを有するもの
出願人:
株式会社日立ハイテクノロジーズ HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西新橋一丁目24番14号 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
発明者:
伊藤 直人 ITO Naoto; JP
山澤 雄 YAMAZAWA Yu; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND OBSERVATION METHOD USING SAME, AND ELEMENT ANALYZING METHOD
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION FAISANT APPEL À CE DERNIER, ET PROCÉDÉ D'ANALYSE D'ÉLÉMENT
(JA) 荷電粒子線装置およびそれを用いた観察方法、元素分析方法
要約:
(EN) In order to achieve a charged particle beam device with which energy of secondary charged particles can be easily discriminated, this charged particle beam device has: a charged particle source 2; a specimen stage 14 on which a specimen 15 is placed; an objective lens 13 for irradiating the specimen 15 with a charged particle beam 5 from the charged particle source 2; a deflector 17 that deflects secondary charged particles 16 emitted by the irradiation of the specimen 15 with the charged particle beam 5; a detector 18 that detects the secondary charged particles deflected by the deflector 17; a specimen voltage control unit 19 that applies a positive voltage V3 to the specimen 15 or to the specimen stage 14; and a deflection intensity control unit 20 that controls the intensity at which the deflector 17 deflects the secondary charged particles 16.
(FR) La présente invention vise à obtenir un dispositif à faisceau de particules chargées permettant de différencier facilement l'énergie de particules chargées secondaires. À cet effet, un dispositif à faisceau de particules chargées comporte : une source de particules chargées (2) ; une platine (14) sur laquelle un échantillon (15) est placé ; un objectif (13) servant à exposer l'échantillon (15) à un faisceau de particules chargées (5) provenant de la source de particules chargées (2) ; un déflecteur (17) qui dévie les particules chargées secondaires (16) émises par l'exposition de l'échantillon (15) au faisceau de particules chargées ; un détecteur (18) qui détecte les particules chargées secondaires déviées par le déflecteur (17) ; une unité de régulation de tension d'échantillon (19) qui applique une tension positive (T3) à l'échantillon (15) ou à la platine (14) ; et une unité de réglage d'intensité de déviation (20) qui règle l'intensité à laquelle le déflecteur (17) dévie les particules chargées secondaires (16).
(JA) 簡便に二次荷電粒子のエネルギー弁別が可能な荷電粒子線装置を実現する。荷電粒子線装置は、荷電粒子源2と、試料15を載置する試料ステージ14と、荷電粒子源2からの荷電粒子線5を試料15に照射する対物レンズ13と、試料15に荷電粒子線5を照射することにより放出される二次荷電粒子16を偏向する偏向器17と、偏向器17により偏向された二次荷電粒子を検出する検出器18と、試料15または試料ステージ14に正電圧V3を印加する試料電圧制御部19と、偏向器17が二次荷電粒子16を偏向する強度を制御する偏向強度制御部20とを有する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)