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1. (WO2019038833) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造装置
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国際公開番号: WO/2019/038833 国際出願番号: PCT/JP2017/029950
国際公開日: 28.02.2019 国際出願日: 22.08.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/14 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
14
エレクトロルミネッセンス材料の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
江角 真一 ESUMI, Shinichi; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) METHOD FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK AND APPARATUS FOR PRODUCING VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET APPAREIL DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスクの製造装置
要約:
(EN) A method for producing a vapor deposition mask provided with a frame (41) comprising a first splint (41a) and second splint (41b) that extend in a first direction and at least one mask sheet (40), wherein at least one mask sheet is stretched on the first splint and second splint with the outside of the first splint being pressed in the direction from the first splint towards the second splint and the outside of the second splint being pressed in the direction from the second splint towards the first splint.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un masque de dépôt en phase vapeur, pourvu d'un cadre (41), qui comprend une première éclisse (41a) et une seconde éclisse (41b) qui s'étendent dans une première direction et au moins une feuille de masque (40). Au moins une feuille de masque est tendue sur la première éclisse et la seconde éclisse, l'extérieur de la première éclisse étant pressé dans la direction allant de la première éclisse vers la seconde éclisse et l'extérieur de la seconde éclisse étant pressé dans la direction allant de la seconde éclisse vers la première éclisse.
(JA) 第1方向に伸びる、第1辺材(41a)および第2辺材(41b)を含むフレーム(41)と、1以上のマスクシート(40)とを備える蒸着マスクの製造方法であって、前記第1辺材の外側を前記第1辺材から前記第2辺材に向かう方向に押圧するとともに、前記第2辺材の外側を前記第2辺材から前記第1辺材に向かう方向に押圧した状態で、前記第1辺材および前記第2辺材に1以上のマスクシートを架張する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)