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1. (WO2019033307) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
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国際公開番号: WO/2019/033307 国際出願番号: PCT/CN2017/097696
国際公開日: 21.02.2019 国際出願日: 16.08.2017
IPC:
C02F 9/06 (2006.01) ,C02F 1/72 (2006.01) ,B65D 88/54 (2006.01)
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
9
水,廃水または下水の多段階処理
04
少なくとも一つのステップが化学的処理であるもの
06
電気化学処理
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
72
酸化によるもの
B 処理操作;運輸
65
運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
D
物品または材料の保管または輸送用の容器,例.袋,樽,瓶,箱,缶,カートン,クレート,ドラム缶,つぼ,タンク,ホッパー,運送コンテナ;付属品,閉蓋具,またはその取付け;包装要素;包装体
88
大形容器
54
充満または荷あけを容易にする手段によって特徴づけられたもの
出願人:
深圳市柔宇科技有限公司 SHENZHEN ROYOLE TECHNOLOGIES CO., LTD. [CN/CN]; 中国广东省深圳市 龙岗区横岗街道龙岗大道8288号大运软件小镇43栋 Building #43, Dayun Software Town, No. 8288 Longgang Road, Henggang Street, Longgang District Shenzhen, Guangdong 518052, CN
発明者:
徐蕊 XU, Rui; CN
曹飞 CAO, Fei; CN
钟仁聪 ZHONG, Rencong; CN
代理人:
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) TSINGYIHUA INTELLECTUAL PROPERTY LLC; 中国北京市 清华园清华大学照澜院商业楼301室 Room 301 Trade Building, Zhaolanyuan, Tsinghua University, Qinghuayuan Beijing 100084, CN
優先権情報:
発明の名称: (EN) WASTE LIQUID STORAGE DEVICE AND WET ETCHING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE DE DÉCHETS LIQUIDES ET SYSTÈME DE GRAVURE HUMIDE
(ZH) 废液存储装置和湿式蚀刻系统
要約:
(EN) A waste liquid storage device (10) and a wet etching system having the waste liquid storage device (10), for storing a waste liquid (20) generated by wet etching. The waste liquid (20) comprises a first solute (22) and a second solute (24), and the second solute (24) is a catalyst for an exothermic oxidation reaction of the first solute (22). The waste liquid storage device (10) comprises a first liquid storage tank (11) and a first conduit (12) for connecting an external complexant solution source (30) with the first liquid storage tank (11). The first liquid storage tank (11) is used for storing the waste liquid (20), the first conduit (12) is used for channeling a complexant (32) to the first liquid storage tank (11), and the complexant (32) is used to inhibit the catalytic ability of the second solute (24) for reaction of the first solute (22). The wet etching system (100) comprises a wet etching machine (40) for etching workpieces and generating the waste liquid (20), and the waste liquid storage device (10).
(FR) Un dispositif de stockage de déchets liquides (10) et un système de gravure humide comprenant le dispositif de stockage de déchets liquides (10), pour stocker un liquide résiduaire (20) généré par gravure humide. Le liquide résiduaire (20) comprend un premier soluté (22) et un second soluté (24), le second soluté (24) étant un catalyseur pour une réaction d'oxydation exothermique du premier soluté (22). Le dispositif de stockage de déchets liquides (10) comprend un premier réservoir de stockage de liquide (11) et un premier conduit (12) pour relier une source de solution de complexant externe (30) au premier réservoir de stockage de liquide (11). Le premier réservoir de stockage de liquide (11) est utilisé pour stocker les déchets liquides (20), le premier conduit (12) est utilisé pour acheminer un complexant (32) vers le premier réservoir de stockage de liquide (11), et le complexant (32) est utilisé pour inhiber l'action catalytique du second soluté (24) dans la réaction du premier soluté (22). Le système de gravure humide (100) comprend une machine de gravure humide (40) pour graver des pièces et générer les déchets liquides (20), et le dispositif de stockage de déchets liquides (10).
(ZH) 一种废液存储装置(10)及具有该废液存储装置(10)的湿式蚀刻系统,用于存储湿式蚀刻产生的废液(20),废液(20)包括第一溶质(22)和第二溶质(24),第二溶质(24)为第一溶质(22)发生放热氧化反应的催化剂,废液存储装置(10)包括第一储液罐(11)和连接外部的络合剂溶液源(30)与第一储液罐(11)的第一管路(12),第一储液罐(11)用于存储废液(20),第一管路(12)用于将络合剂(32)导引到第一储液罐(11),络合剂(32)用于抑制第二溶质(24)对第一溶质(22)反应的催化能力。其中,湿式蚀刻系统(100)包括用于蚀刻工件和产生废液(20)的湿式蚀刻机台(40)和废液存储装置(10)。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)