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1. (WO2019032896) MANUFACTURING LIGHT FIELD PRINTS
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国際公開番号: WO/2019/032896 国際出願番号: PCT/US2018/046107
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 09.08.2018
IPC:
B41F 13/08 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
F
印刷機械
13
輪転機の共通な細部
08
出願人:
LUMII, INC. [US/US]; 23 Drydock Ave. 1st Floor Boston, MA 02210, US
発明者:
BARAN, Thomas, Anthony; US
HIRSCH, Matthew, Waggener; US
代理人:
RUDOY, Daniel, G.; US
優先権情報:
62/543,36809.08.2017US
発明の名称: (EN) MANUFACTURING LIGHT FIELD PRINTS
(FR) FABRICATION D'IMPRESSIONS À CHAMP LUMINEUX
要約:
(EN) Techniques for manufacturing a light field print using a printing press. The techniques include: identifying at least one characteristic of the printing press at least in part by printing at least one calibration pattern; obtaining content to be rendered using the light field print, the content comprising multiple scene views; generating, based at least in part on the content and the at least one characteristic of the printing press, a front target pattern and a back target pattern; and using the printing press to: print the front target pattern on a first side of a substrate; and print the back target pattern on a second side of the substrate.
(FR) L'invention concerne des techniques de fabrication d'une impression à champ lumineux à l'aide d'une presse à imprimer. Les techniques comprennent: l'identification d'au moins une caractéristique de la presse à imprimer au moins en partie par l'impression d'au moins un motif d'étalonnage; l'obtention d'un contenu devant être rendu à l'aide de l'impression à champ lumineux, le contenu comprenant de multiples vues de scène; la génération, sur la base au moins en partie du contenu et de l'au moins une caractéristique de la presse à imprimer, un motif cible avant et un motif cible arrière; et l'utilisation de la presse à imprimer pour: imprimer le motif cible avant sur un premier côté d'un substrat; et imprimer le motif cible arrière sur un second côté du substrat.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)