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1. (WO2019032251) SEMICONDUCTOR MOLD COMPOUND TRANSFER SYSTEM AND ASSOCIATED METHODS
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国際公開番号: WO/2019/032251 国際出願番号: PCT/US2018/042525
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 17.07.2018
IPC:
H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/56 (2006.01) ,H01L 23/28 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
50
サブグループ21/06~21/326の一つに分類されない方法または装置を用いる半導体装置の組立
56
封緘,例.封緘層,被覆
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23
半導体または他の固体装置の細部
28
封緘,例.封緘層,被覆
出願人:
MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 8000 S. Federal Way, P.O. Box 6 Boise, ID 83707-0006, US
発明者:
KOH, Kean, Tat; SG
CHOONG, Lien, Wah; SG
代理人:
PARKER, Paul, T.; US
ARNETT, Stephen, E.; US
AI, Bing; US
PARKER, Paul, T.; US
FAREID, Asphahani; US
優先権情報:
15/670,35107.08.2017US
発明の名称: (EN) SEMICONDUCTOR MOLD COMPOUND TRANSFER SYSTEM AND ASSOCIATED METHODS
(FR) SYSTÈME DE TRANSFERT DE COMPOSÉ DE MOULAGE À SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉS ASSOCIÉS
要約:
(EN) Mold compound transfer systems and methods for making mold compound transfer systems are disclosed herein. A method configured in accordance with a particular embodiment includes placing a sheet mold compound in a containment area defined by a tray cover, and dispensing a granular mold compound over the sheet mold compound. The sheet mold compound can have a first density and the overall granular mold compound can have a second density less than the first density. The method further comprises transferring the solid sheet carrying the dispensed grains to a molding machine without using a release film.
(FR) L'invention concerne des systèmes de transfert de composé de moulage et des procédés de fabrication de systèmes de transfert de composé de moulage. Un procédé configuré conformément à un mode de réalisation particulier comprend le placement d'un composé de moulage en feuille dans une zone de confinement définie par un couvercle de plateau, et la distribution d'un composé de moulage granulaire sur le composé de moulage en feuille. Le composé de moulage en feuille peut avoir une première densité et le composé de moulage granulaire globale peut avoir une seconde densité inférieure à la première densité. Le procédé comprend en outre le transfert de la feuille solide portant les grains distribués à une machine de moulage sans utiliser de film de libération.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 英語 (EN)
国際出願言語: 英語 (EN)