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1. (WO2019031610) 改質リグニンの製造方法及び改質リグニン、並びに改質リグニン含有樹脂組成材料
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/031610 国際出願番号: PCT/JP2018/030113
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 10.08.2018
IPC:
C07G 1/00 (2011.01) ,C08H 7/00 (2011.01) ,C08K 5/07 (2006.01) ,C08K 5/13 (2006.01) ,C08L 97/00 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
G
構造不明の化合物
1
リグニンの低分子量誘導体
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
H
天然高分子化合物の誘導体
7
リグニン;変性リグニン;そこから誘導された高分子量生成物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K
無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
5
有機配合成分の使用
04
酸素含有化合物
07
アルデヒド;ケトン
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K
無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
5
有機配合成分の使用
04
酸素含有化合物
13
フェノール類;フェノラート類
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
97
リグニン含有材料の組成物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
101
不特定の高分子化合物の組成物
出願人:
出光興産株式会社 IDEMITSU KOSAN CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008321, JP
発明者:
田代 裕統 TASHIRO, Hironori; JP
小山 啓人 KOYAMA, Yoshihito; JP
代理人:
平澤 賢一 HIRASAWA, Kenichi; JP
滝沢 喜夫 TAKIZAWA, Yoshio; JP
大谷 保 OHTANI, Tamotsu; JP
優先権情報:
2017-15618710.08.2017JP
発明の名称: (EN) MODIFIED LIGNIN MANUFACTURING METHOD, MODIFIED LIGNIN, AND MODIFIED LIGNIN-INCLUDING RESIN COMPOSITION MATERIAL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE LIGNINE MODIFIÉE, LIGNINE MODIFIÉE, ET MATÉRIAU DE COMPOSITION DE RÉSINE COMPRENANT DE LA LIGNINE MODIFIÉE
(JA) 改質リグニンの製造方法及び改質リグニン、並びに改質リグニン含有樹脂組成材料
要約:
(EN) A modified lignin manufacturing method having a step in which a phenolic compound is reacted with at least one of a second generation ethanol fermentation residue and a second generation ethanol saccharification residue. A modified lignin and a modified lignin-including resin composition material, wherein the ratio [(2H+G)/S] of the sum of two times the relative abundance H (%) of an H-type skeleton and the relative abundance G (%) of a G-type skeleton to the relative abundance S (%) of an S-type skeleton, as calculated from integrated values measured by 31P-NMR, is 2.5 or greater, and the abundance of an aliphatic hydroxyl group as measured by the same technique is less than 20%.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication de lignine modifiée qui comprend une étape dans laquelle un composé phénolique est mis à réagir avec au moins un résidu de fermentation d'éthanol de seconde génération et un résidu de saccharification d'éthanol de seconde génération. La présente invention concerne également une lignine modifiée et un matériau de composition de résine contenant de la lignine modifiée, le rapport [(2H+G)/S] de la somme de deux fois l'abondance relative H (%) d'un squelette de type H et l'abondance relative G (%) d'un squelette de type G à l'abondance relative S (%) d'un squelette de type S, comme calculé à partir de valeurs intégrées mesurées par 31P-NMR, est de 2,5 ou plus, et l'abondance d'un groupe hydroxyle aliphatique tel que mesuré par la même technique est inférieure à 20 %.
(JA) 第2世代エタノール発酵残渣及び第2世代エタノール糖化残渣のいずれか1種以上とフェノール化合物を反応させる工程を有する改質リグニンの製造方法、及び31P-NMRで測定される積分値から求めたS型骨格の相対存在率S(%)に対するH型骨格の相対存在率H(%)の2倍及びG型骨格の相対存在率G(%)の合計の比[(2H+G)/S]が2.5以上であり、同手法にて測定される脂肪族水酸基の存在率が20%未満である改質リグニン、並びに改質リグニン含有樹脂組成材料である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)