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1. (WO2019031606) エレクトロデポジション素子を駆動する駆動回路及び駆動方法
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国際公開番号: WO/2019/031606 国際出願番号: PCT/JP2018/030095
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 10.08.2018
IPC:
G02F 1/163 (2006.01) ,G02F 1/19 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
15
エレクトロクロミック素子に基づいたもの
163
エレクトロクロミックセルの作動;回路配置
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
19
可変反射素子または可変屈折素子に基づいたもの
出願人:
株式会社 村上開明堂 MURAKAMI CORPORATION [JP/JP]; 静岡県静岡市葵区伝馬町11番地5 11-5 Tenma-cho, Aoi-ku, Shizuoka-shi, Shizuoka 4208550, JP
発明者:
菊地 幸大 KIKUCHI Kodai; JP
宮川 和典 MIYAKAWA Kazunori; JP
持塚 多久男 MOCHIZUKA Takuo; JP
代理人:
加藤 邦彦 KATO Kunihiko; JP
優先権情報:
2017-15535710.08.2017JP
発明の名称: (EN) DRIVE CIRCUIT AND DRIVE METHOD FOR DRIVING ELECTRODEPOSITION ELEMENT
(FR) CIRCUIT DE COMMANDE ET PROCÉDÉ DE COMMANDE D'ÉLÉMENT DE DÉPÔT ÉLECTROLYTIQUE
(JA) エレクトロデポジション素子を駆動する駆動回路及び駆動方法
要約:
(EN) [Problem] To increase reaction rate when deposition of ionized material on electrodes is started in a prescribed permeation state such as a completely permeable state. [Solution] In a waiting period in which the permeation state of an electrodeposition element 2 is maintained in a prescribed permeation state such as a complete permeation state, a permeability maintaining pulse generation unit 20 generates, on the basis of a preset frequency f, duty ratio t/T, first voltage V1 and second voltage V2, a permeability maintaining pulse P pattern with the period corresponding to the frequency f and outputs the permeability maintaining pulse P pattern continuously to the electrodeposition element 2. In a dimming period in which the permeation state of the electrodeposition element 2 is maintained in a dimming state (the permeability is lowered), a deposition start voltage generation unit 21 applies a third voltage V3, which is a predetermined deposition start voltage, to the electrodeposition element 2. Thus, the metal ions are easily deposited, and diffusion speed of the metal ions can be increased.
(FR) La présente invention a pour objet d'accroître la vitesse de réaction lors du démarrage du dépôt de matériau ionisé sur des électrodes dans un état de perméation prescrit tel qu'un état complètement perméable. Lors d'une période d'attente à laquelle l'état de perméation d'un élément de dépôt électrolytique (2) est maintenu à un état de perméation prescrit tel qu'un état de perméation totale, une unité de génération d'impulsions de maintien de perméabilité (20) génère, sur la base d'une fréquence prédéfinie f, d'un rapport cyclique t/T, d'une première tension V1 et d'une deuxième tension V2, un motif P d'impulsions de maintien de perméabilité avec la période correspondant à la fréquence f et délivre en continu le motif P d'impulsions de maintien de perméabilité à l'élément de dépôt électrolytique (2). Lors d'une période de gradation à laquelle l'état de perméation de l'élément de dépôt électrolytique (2) est maintenu à un état de gradation (la perméabilité est réduite), une unité de génération de tension de début de dépôt (21) applique une troisième tension V3, qui est une tension prédéterminée de début de dépôt, à l'élément de dépôt électrolytique (2). Ainsi, les ions métalliques sont facilement déposés, et la vitesse de diffusion des ions métalliques peut être accrue.
(JA) 【課題】完全透過状態等の所定の透過状態において、イオン化した材料が電極に析出を開始する際の反応速度を早める。 【解決手段】透過率保持パルス生成部20は、エレクトロデポジション素子2の透過状態を完全透過状態等の所定の透過状態に保持する待機期間において、予め設定された周波数f、デューティ比t/T、第1電圧V1及び第2電圧V2に基づいて、周波数fに対応する周期の透過率保持パルスPのパターンを生成し、透過率保持パルスPのパターンを連続的にエレクトロデポジション素子2へ出力する。析出開始電圧生成部21は、エレクトロデポジション素子2の透過状態を減光状態に保持する(透過率を低下させる)減光の期間において、予め設定された析出開始電圧である第3電圧V3をエレクトロデポジション素子2へ印加する。これにより、金属イオンが析出し易くなり、金属イオンの拡散速度を早めることができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)