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1. (WO2019031565) MEMS振動素子の製造方法およびMEMS振動素子
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国際公開番号: WO/2019/031565 国際出願番号: PCT/JP2018/029842
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 08.08.2018
IPC:
B81C 1/00 (2006.01) ,B81B 3/00 (2006.01) ,H01G 5/013 (2006.01) ,H01G 7/02 (2006.01) ,H02N 2/18 (2006.01) ,H02N 11/00 (2006.01)
B 処理操作;運輸
81
マイクロ構造技術
C
マイクロ構造装置またはシステムの製造または処理に,特に適合した方法または装置
1
基層中または基層上での装置またはシステムの製造または処理
B 処理操作;運輸
81
マイクロ構造技術
B
マイクロ構造装置またはシステム,例.マイクロマシン装置
3
可撓性の,または変形可能な要素,例.弾性のある舌片または薄膜,からなる装置
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
5
機械的手段によって容量を変えるコンデンサ,例.軸の回転によるもの;その製造方法
01
細部
013
誘電体
H 電気
01
基本的電気素子
G
コンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
7
機械的でない手段によって容量を変えるコンデンサ;その製造方法
02
エレクトレット,すなわち永久双極子を有するもの
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
N
他類に属しない電機
2
圧電効果,電歪または磁歪を用いる電機一般
18
機械的入力から電気的出力を生じるもの,例.発電機(測定装置用G01)
H 電気
02
電力の発電,変換,配電
N
他類に属しない電機
11
他に分類されない発電機または電動機;電気的または磁気的手段により永久運動を得たと主張するもの
出願人:
国立大学法人 静岡大学 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION SHIZUOKA UNIVERSITY [JP/JP]; 静岡県静岡市駿河区大谷836 836, Ohya, Suruga-ku, Shizuoka-shi, Shizuoka 4228529, JP
株式会社鷺宮製作所 SAGINOMIYA SEISAKUSHO, INC. [JP/JP]; 東京都中野区若宮2丁目55番5号 55-5, Wakamiya 2-chome, Nakano-ku, Tokyo 1650033, JP
発明者:
橋口 原 HASHIGUCHI, Gen; JP
古賀 英明 KOGA, Hideaki; JP
代理人:
永井 冬紀 NAGAI, Fuyuki; JP
池田 恵一 IKEDA, Keiichi; JP
優先権情報:
2017-15447409.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING MEMS VIBRATION ELEMENT, AND MEMS VIBRATION ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT DE VIBRATION MEMS, ET ÉLÉMENT DE VIBRATION MEMS
(JA) MEMS振動素子の製造方法およびMEMS振動素子
要約:
(EN) Provided is a method for manufacturing a MEMS vibration element having a fixed electrode, a movable electrode, and an elastic support portion that elastically supports the movable electrode with respect to the fixed electrode, the method comprising: a step for forming the fixed electrode and the movable electrode by etching a base with a first thickness; and a step for forming the elastic support portion with a second thickness that is thinner than the first thickness, by etching the base.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément de vibration MEMS comprenant une électrode fixe, une électrode mobile, et une partie support élastique qui soutient élastiquement l'électrode mobile par rapport à l'électrode fixe, le procédé comprenant : une étape de formation des électrodes fixe et mobile par gravure d'une base à une première épaisseur ; et une étape de formation de la partie support élastique à une seconde épaisseur qui est plus fine que la première épaisseur, par gravure de la base.
(JA) 固定電極と、可動電極と、可動電極を固定電極に対して弾性支持する弾性支持部とを有するMEMS振動素子の製造方法は、第1の厚さの基材をエッチング加工して、固定電極および前記可動電極を形成することと、基材をエッチング加工して、弾性支持部を第1の厚さよりも薄い第2の厚さに形成することとを含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)