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1. (WO2019031406) 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版
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国際公開番号: WO/2019/031406 国際出願番号: PCT/JP2018/029236
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 03.08.2018
IPC:
G03F 7/037 (2006.01) ,B41N 1/12 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
037
結合剤がポリアミド又はポリイミドであるもの
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
N
印刷版またはフォイル(感光性材料G03);印刷,インキ付け,湿し等,印刷機に使用される表面用材料;その表面の使用準備または保存
1
印刷版またはフォイル;その材料
12
石以外の非金属
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
出願人:
東洋紡株式会社 TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区堂島浜二丁目2番8号 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
発明者:
芳本 和也 YOSHIMOTO, Kazuya; JP
代理人:
風早 信昭 KAZAHAYA, Nobuaki; JP
浅野 典子 ASANO, Noriko; JP
優先権情報:
2017-15248207.08.2017JP
2017-20362120.10.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE, AND RELIEF PRINTING ORIGINAL PLATE USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF ET PLAQUE ORIGINALE D'IMPRESSION EN RELIEF OBTENUE À PARTIR DE CETTE DERNIÈRE
(JA) 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版
要約:
(EN) Provided is a photosensitive resin composition that: when being used for an analog plate, can exert excellent image reproducibility with no missing highlight halftone dots even in development using a hard brush, while maintaining the printing durability, and further, can prevent increase in the surface stickiness, irrespective of increase of the blending ratio of a tertiary nitrogen atom-containing polyamide; and, when being used for a laser-engraved plate, can reduce degradation of the image reproducibility irrespective of use of a brush in a cleaning step following laser engraving, while exerting excellent durability during printing. The photosensitive resin composition contains (i) a modified partially saponified polyvinyl acetate having a functional group introduced in a side chain, (ii) a tertiary nitrogen atom-containing polyamide, (iii) a photopolymerizable unsaturated compound, and (iv) a photopolymerization initiator, wherein (ii) the tertiary nitrogen atom-containing polyamide contains 20-50 mol% of a structural unit obtained from a cyclohexanedicarboxylic acid and 50-95 mol% of alicyclic structural units in total, with respect to the total amounts of an aminocarboxylic acid unit (including cases where a lactam is a raw material), a dicarboxylic acid unit, and a diamine unit in a polyamide molecule. Also provided is a relief printing original plate having, on a support body, a photosensitive resin layer formed by use of the photosensitive resin composition.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible qui : lorsqu'elle est utilisée pour une plaque analogique, peut exercer une excellente reproductibilité d'image sans points de demi-teinte de surbrillance manquantes, même lors du développement à l'aide d'une brosse dure, tout en maintenant la durabilité d'impression, et en outre, peut empêcher une augmentation de l'adhésivité de surface, indépendamment de l'augmentation du rapport de mélange d'un polyamide contenant un atome d'azote tertiaire ; et, lorsqu'elle est utilisée pour une plaque gravée au laser, peut réduire la dégradation de la reproductibilité d'image indépendamment de l'utilisation d'une brosse dans une étape de nettoyage à la suite de la gravure au laser, tout en exerçant une excellente durabilité pendant l'impression. La composition de résine photosensible contient (i) un poly(acétate de vinyle) partiellement saponifié modifié, ayant un groupe fonctionnel introduit dans une chaîne latérale, (ii) un polyamide contenant un atome d'azote tertiaire, (iii) un composé insaturé photopolymérisable et (iv) un initiateur de photopolymérisation, et (ii) le polyamide contenant un atome d'azote tertiaire contient 20 à 50 % en moles d'un motif structural obtenue à partir d'un acide cyclohexanedicarboxylique et 50 à 95 % en moles de motifs structuraux alicycliques au total, par rapport aux quantités totales d'un motif d'acide aminocarboxylique (y compris les cas où un lactame est une matière première), un motif d'acide dicarboxylique et un motif diamine dans une molécule de polyamide. L'invention concerne également une plaque originale d'impression en relief comportant, sur un corps de support, une couche de résine photosensible formée par l'utilisation de la composition de résine photosensible.
(JA) アナログ版に使用する場合は、耐刷性を維持しつつ、硬いブラシで現像した場合でもハイライト網点に欠けのない優れた画像再現性を有し、しかも、第3級窒素原子含有ポリアミドの配合率を高くしても表面粘着を増大させないようにすることができ、レーザー彫刻版に使用する場合は、優れた印刷時の耐刷性を有しながら、レーザー彫刻後の洗浄工程をブラシで行なっても画像再現性の低下を少なくすることができる感光性樹脂組成物を提供する。この感光性樹脂組成物は、(i)側鎖に官能基を導入した変性部分ケン化ポリ酢酸ビニル、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミド、(iii)光重合性不飽和化合物、及び(iv)光重合開始剤を含有し、(ii)第3級窒素原子含有ポリアミドが、ポリアミド分子中のアミノカルボン酸単位(原料としてラクタムの場合を含む)、ジカルボン酸単位、及びジアミン単位の合計に対して、シクロへキサンジカルボン酸より得られる構造単位を20~50モル%含有し、且つ脂環族構造単位を合計50~95モル%含有する。この感光性樹脂組成物を使用して形成された感光性樹脂層を支持体上に有する印刷原版も提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)