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1. (WO2019031360) インプリント用レプリカモールド材料
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/031360 国際出願番号: PCT/JP2018/028899
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 01.08.2018
IPC:
B29C 59/02 (2006.01) ,B29C 33/40 (2006.01)
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
33
型またはコア;その細部または付属装置
38
材料または製造方法に特微があるもの
40
プラスチック,例.発泡体,ゴム
出願人:
日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋二丁目5番1号 5-1, Nihonbashi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1036119, JP
発明者:
小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei; JP
加藤 拓 KATO, Taku; JP
首藤 圭介 SHUTO, Keisuke; JP
代理人:
特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE; 東京都千代田区神田駿河台3丁目2番地 新御茶ノ水アーバントリニティ Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062, JP
優先権情報:
2017-15245907.08.2017JP
2018-06070427.03.2018JP
発明の名称: (EN) REPLICA MOLD MATERIAL FOR IMPRINTING
(FR) MATÉRIAU DE MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE
(JA) インプリント用レプリカモールド材料
要約:
(EN) [Problem] To provide a novel replica mold material for imprinting. [Solution] A replica mold material for imprinting containing the following component (A), component (B), and component (C). (A): A di(meth)acrylate compound represented by formula (1) (in the formula, R1 and R2 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; R3 and R4 each independently represent an alkylene group; R5 and R6 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; r1 and r2 each independently represent an integer). (B): A non-crosslinkable copolymer having structural units represented by formula (2) and structural units represented by formula (3) (in the formula, R7 and R8 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group; X1 represents a linear alkyl group; X2 represents an alicyclic hydrocarbon group having an isobornyl structure, adamantane structure, tricyclodecane structure, etc.). (C): A photopolymerization initiator.
(FR) L'invention fournit un nouveau matériau de moule de réplique pour empreinte. Plus précisément, l'invention concerne matériau de moule de réplique pour empreinte qui comprend les composants (A), (B) et (C) suivants. (A) : composé di(méth)acrylate représenté par la formule (1) (Dans la formule, R1 et R2 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, R3 et R4 représentent, chacun indépendamment, un groupe alkylène, R5 et R6 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, r1 et r2 représentent, chacun indépendamment, un nombre entier ; (B) : copolymère non réticulable possédant une unité structurale représentée par la formule (2) et une unité structurale représentée par la formule (3) (Dans la formule, R7 et R8 représentent, chacun indépendamment, un atome d'hydrogène ou un groupe méthyl, X1 représente un groupe alkyle sous forme de chaîne, X2 représente un groupe hydrocarbure alicyclique ayant une structure isobornyle, une structure adamantanique, une structure tricyclodécane, ou similaire.) ; C : initiateur de photopolymérisation
(JA) 【課題】 新規なインプリント用レプリカモールド材料を提供する。 【解決手段】 下記(A)成分、(B)成分及び(C)成分を含有するインプリント用レプリカモールド材料。 (A):下記式(1)で表されるジ(メタ)アクリレート化合物 (式中、R1及びR2はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立にアルキレン基を表し、R5及びR6はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、r1及びr2はそれぞれ独立に整数を表す。) (B):下記式(2)で表される構造単位及び下記式(3)で表される構造単位を有する非架橋性の共重合体 (式中、R7及びR8はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、X1は鎖状アルキル基を表し、X2はイソボルニル構造、アダマンタン構造、トリシクロデカン構造等を有する脂環式炭化水素基を表す。) (C):光重合開始剤
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)