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1. (WO2019031250) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
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国際公開番号: WO/2019/031250 国際出願番号: PCT/JP2018/027972
国際公開日: 14.02.2019 国際出願日: 25.07.2018
IPC:
G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
浅野 裕介 ASANO Yusuke; JP
峯岸 信也 MINEGISHI Shinya; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-15612610.08.2017JP
発明の名称: (EN) RADIATION SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT, ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a radiation sensitive composition which has excellent sensitivity and resolution; and a resist pattern forming method. The present invention is a radiation sensitive composition which contains a polymetalloxane that has a structural unit represented by formula (1), a radiation sensitive acid generator, and a solvent. In formula (1), M represents a germanium atom, a tin atom or a lead atom; Ar1 represents a substituted or unsubstituted aryl group having 6-20 ring members or a substituted or unsubstituted heteroaryl group having 5-20 ring members; R1 represents a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, a hydrogen atom, a halogen atom or a hydroxy group; and n represents 2 or 3.
(FR) L'invention a pour objet de fournir une composition sensible au rayonnement excellente en termes de sensibilité et de résolution, et un procédé de formation de motif de réserve. Plus précisément, l'invention concerne une composition sensible au rayonnement qui comprend un polymétalloxane présentant une unité structurale représentée par la formule (1), un corps générant un acide sensible au rayonnement, et un solvant. Dans la formule (1), M représente un atome de germanium, un atome d'étain ou un atome de plomb. Ar représente un groupe aryle de 6 à 20 chaînons substitué ou non substitué, ou un groupe hétéroaryle de 5 à 20 chaînons substitué ou non substitué. R représente un groupe organique monovalent de 1 à 20 atomes de carbone, un atome d'hydrogène, un atome d'hlogène et un groupe hydroxy. n représente 2 ou 3.
(JA) 感度及び解像性に優れる感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。本発明は、下記式(1)で表される構造単位を有するポリメタロキサンと、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性組成物である。下記式(1)中、Mは、ゲルマニウム原子、スズ原子又は鉛原子である。Arは、置換若しくは非置換の環員数6~20のアリール基又は置換若しくは非置換の環員数5~20のヘテロアリール基である。Rは、炭素数1~20の1価の有機基、水素原子、ハロゲン原子又はヒドロキシ基である。nは、2又は3である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)