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1. (WO2019026803) パターン形成用基体
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国際公開番号: WO/2019/026803 国際出願番号: PCT/JP2018/028306
国際公開日: 07.02.2019 国際出願日: 27.07.2018
IPC:
B32B 27/00 (2006.01) ,B05D 1/32 (2006.01) ,B05D 7/24 (2006.01) ,H05K 1/02 (2006.01) ,H05K 3/12 (2006.01)
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
1
液体または他の流動性材料を適用する方法
32
表面のある部分を被覆されないように保護する手段を用いるもの,例.ステンシル,レジストを用いるもの
B 処理操作;運輸
05
霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D
液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
7
液体または他の流動性材料を特定の表面に適用するかまたは特定の液体または他の流動性材料を適用するのに特に適した,フロック加工以外の,方法
24
特定の液体または他の流動性材料を適用するためのもの
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
1
印刷回路
02
細部
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
10
導電性物質が希望する導電模様を形成するように絶縁支持部材に施されるもの
12
導電性物質を付着するのに印刷技術を用いるもの
出願人:
ダイキン工業株式会社 DAIKIN INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中崎西2丁目4番12号梅田センタービル Umeda Center Building, 4-12, Nakazaki-Nishi 2-Chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308323, JP
発明者:
本多 義昭 HONDA, Yoshiaki; JP
代理人:
山尾 憲人 YAMAO, Norihito; JP
吉田 環 YOSHIDA, Tamaki; JP
優先権情報:
2017-15183804.08.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE FOR PATTERN FORMATION
(FR) SUBSTRAT DESTINÉ À LA FORMATION DE MOTIF
(JA) パターン形成用基体
要約:
(EN) A substrate for pattern formation has at least a base material and a portion derived from a perfluoro(poly)ether-group-containing silane compound, the base material having at least one main surface that has a first region and a second region, which is a pattern formation region adjacent to the first region, and the portion derived from a perfluoro(poly)ether-group-containing silane compound being disposed in the first region.
(FR) L’invention concerne un substrat destiné à la formation de motif présentant au moins un matériau de base et une partie dérivée d'un composé de silane contenant un groupe (poly)éther perfluoré, le matériau de base ayant au moins une surface principale qui a une première région et une seconde région, qui est une région de formation de motif adjacente à la première région, et la partie dérivée d'un composé de silane contenant un groupe (poly)éther perfluoré étant disposée dans la première région.
(JA) 少なくとも、基材と、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物に由来する部分とを有し、基材は、第1の領域、および、該第1の領域と隣接するパターン形成用領域である第2の領域を有する少なくとも1の主面を有し、パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物に由来する部分は、第1の領域に配置されている、パターン形成用基体。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)