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1. (WO2019026705) 液晶表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2019/026705 国際出願番号: PCT/JP2018/027791
国際公開日: 07.02.2019 国際出願日: 25.07.2018
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
平戸 伸一 HIRATO, Shinichi; --
代理人:
特許業務法人 安富国際特許事務所 YASUTOMI & ASSOCIATES; 大阪府大阪市淀川区宮原3丁目5番36号 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003, JP
優先権情報:
2017-14926601.08.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示装置の製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal display device, whereby the occurrence of always-on-pixels is suppressed while reduction of anisotropy is suppressed. This method for manufacturing a liquid crystal display device provided with a pair of substrates and a liquid crystal layer sandwiched between the pair of substrates includes a step (1) for forming a film of an optical alignment film material containing a polymer of a diamine and a carboxylic acid dianhydride having a cyclobutane skeleton on the surface of at least one of the pair of substrates, a step (2) for irradiating the film with polarized light and forming an optical alignment film, and a step (3) for washing the optical alignment film with ozonated water having a concentration of 5 ppm or less for 1 minute or less.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides, grâce auquel l'apparition de pixels toujours allumés est supprimée tandis que la réduction de l'anisotropie est également supprimée. Ce procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage à cristaux liquides pourvu d'une paire de substrats et d'une couche de cristaux liquides prise en sandwich entre la paire de substrats comprend une étape (1) de formation d'un film d'un matériau de film d'alignement optique contenant un polymère d'une diamine et d'un dianhydride d'acide carboxylique ayant un squelette cyclobutane sur la surface d'au moins l'un de la paire de substrats, une étape (2) d'irradiation du film avec une lumière polarisée et de formation d'un film d'alignement optique, et une étape (3) de rinçage du film d'alignement optique avec de l'eau ozonée ayant une concentration de 5 ppm ou moins pendant 1 minute ou moins.
(JA) 本発明は、異方性の低下を抑制しつつ、輝点の発生を抑制する液晶表示装置の製造方法を提供する。本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板と、上記一対の基板間に挟持される液晶層とを備える液晶表示装置の製造方法であって、上記一対の基板の少なくとも一方の表面上に、シクロブタン骨格を有するカルボン酸二無水物とジアミンとの重合体を含有する光配向膜材料による膜を形成する工程(1)と、上記膜に対して偏光照射を行い、光配向膜を形成する工程(2)と、上記光配向膜に対して、濃度5ppm以下のオゾン水による洗浄を1分間以下行う工程(3)とを含む。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)