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1. (WO2019026546) 共重合体及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2019/026546 国際出願番号: PCT/JP2018/025725
国際公開日: 07.02.2019 国際出願日: 06.07.2018
IPC:
C08F 220/36 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/033 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220
ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
34
窒素を含有するエステル
36
カルボキシ酸素以外に酸素を含有するもの
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
033
結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shiba Daimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
永井 英理 NAGAI, Eri; JP
木下 健宏 KINOSHITA, Takehiro; JP
川口 恭章 KAWAGUCHI, Yasuaki; JP
柳 正義 YANAGI, Masayoshi; JP
倉本 拓樹 KURAMOTO, Hiroki; JP
代理人:
曾我 道治 SOGA, MICHIHARU; 東京都千代田区丸の内三丁目1番1号 国際ビルディング 8階 曾我特許事務所 S. Soga & Co., 8th Floor, Kokusai Building, 1-1, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
梶並 順 KAJINAMI, Jun; JP
大宅 一宏 OHYA, Kazuhiro; JP
優先権情報:
2017-15050103.08.2017JP
発明の名称: (EN) COPOLYMER AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR COLOR FILTER
(FR) COPOLYMÈRE, ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE POUR FILTRE COLORÉ
(JA) 共重合体及びカラーフィルター用感光性樹脂組成物
要約:
(EN) A photosensitive resin composition for a color filter, the photosensitive resin composition containing: (A) a copolymer that contains (a) a structural unit having a blocked isocyanate group, (b) a structural unit having an acid group, and (c) a structural unit having an epoxy group; (B) a solvent; (C) a reactive diluent; (D) a photopolymerization initiator; and (E) a colorant.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible pour filtre coloré qui comprend : un copolymère (A) qui comprend à son tour une unité constitutive (a) possédant un groupe isocyanate séquencé, une unité constitutive (b) possédant un groupe acide et une unité constitutive (c) possédant un groupe époxy ; un solvant (B) ; un diluant réactif (C) ; un initiateur de polymérisation (D) ; et un agent colorant (E).
(JA) ブロックイソシアナト基を有する構成単位(a)と酸基を有する構成単位(b)とエポキシ基を有する構成単位(c)とを含有する共重合体(A)、溶剤(B)、反応性希釈剤(C)、光重合開始剤(D)及び着色剤(E)を含有するカラーフィルター用感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)