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1. (WO2019025036) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
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国際公開番号: WO/2019/025036 国際出願番号: PCT/EP2018/057865
国際公開日: 07.02.2019 国際出願日: 28.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
GROSSMANN, Jan [DE/DE]; DE (US)
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
発明者:
GROSSMANN, Jan; DE
代理人:
FRANK, Hartmut; DE
優先権情報:
10 2017 213 121.731.07.2017DE
発明の名称: (EN) OPTICAL SYSTEM FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) SYSTÈME OPTIQUE POUR LA MICROLITHOGRAPHIE
(DE) OPTISCHES SYSTEM FÜR DIE MIKROLITHOGRAPHIE
要約:
(EN) The invention relates to an optical system for microlithography, the optical system being designed for operation with electromagnetic radiation, which passes through the optical system along a useful beam path, having at least one component (105) which has a region situated outside the useful beam path, said region having a catalytically or chemically active layer (110), and the catalytically or chemically active layer (110) and/or a substrate (230, 240) supporting said layer (110) being porous.
(FR) L'invention concerne un système optique pour la microlithographie, le système optique étant conçu pour un fonctionnement par rayonnement électromagnétique, ledit système optique parcourt un trajet optique utile, comprenant au moins un élément (105) qui présente une zone se trouvant hors du trajet optique utile, cette zone présentant une couche catalytiquement ou chimiquement active (110), et la couche catalytiquement ou chimiquement active (1 10) et/ou un support (230, 240) portant cette couche (110) étant poreux.
(DE) Die Erfindung betrifft ein optisches System für die Mikrolithographie, wobei das optische System für einen Betrieb mit elektromagnetischer Strahlung ausgelegt ist, welche das optische System entlang eines Nutzstrahlengangs durchläuft, mit wenigstens einer Komponente (105), welche einen außerhalb des Nutzstrahlengangs befindlichen Bereich aufweist, wobei dieser Bereich eine katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) aufweist, und wobei die katalytische oder chemisch aktive Schicht (110) und/oder ein diese Schicht (110) tragender Träger (230, 240) porös ist.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: ドイツ語 (DE)
国際出願言語: ドイツ語 (DE)