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1. (WO2019022211) スチルベン系化合物又はその塩、並びに、偏光膜、偏光板及び表示装置
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国際公開番号: WO/2019/022211 国際出願番号: PCT/JP2018/028163
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 26.07.2018
IPC:
C09B 57/00 (2006.01) ,C09K 11/06 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01) ,G02B 5/30 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
57
構造既知のその他の合成染料
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
11
発光性物質,例.電気発光性物質;化学発光性物質
06
有機発光性物質を含有するもの
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
30
偏光要素
出願人:
日本化薬株式会社 NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目1番1号 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
株式会社ポラテクノ POLATECHNO CO.,LTD. [JP/JP]; 新潟県上越市板倉区稲増字下川原192番地6 192-6, Aza Shimogawara, Inamasu, Itakura-ku, Joetsu-shi, Niigata 9440101, JP
発明者:
森田 陵太郎 MORITA Ryoutarou; JP
望月 典明 MOCHIZUKI Noriaki; JP
代理人:
アインゼル・フェリックス=ラインハルト EINSEL Felix-Reinhard; JP
前川 純一 MAEKAWA Junichi; JP
二宮 浩康 NINOMIYA Hiroyasu; JP
上島 類 UESHIMA Rui; JP
優先権情報:
2017-14635428.07.2017JP
2017-14639828.07.2017JP
発明の名称: (EN) STILBENE COMPOUND OR SALT THEREOF, POLARIZING FILM, POLARIZING PLATE AND DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSÉ STILBÈNE OU SON SEL, FILM POLARISANT, PLAQUE POLARISANTE ET ÉCRAN
(JA) スチルベン系化合物又はその塩、並びに、偏光膜、偏光板及び表示装置
要約:
(EN) The present invention is a stilbene compound represented by formula (1) or a salt thereof. In formula (1), group X represents a nitro group or an optionally substituted amino group; group Y represents an optionally substituted amide group or an optionally substituted naphthotriazole group; and each of p and q independently represents an integer of 0-2.
(FR) La présente invention concerne un composé stilbène représenté par la formule (1) ou son sel. Dans la formule (1), le groupe X représente un groupe nitro ou un groupe amino facultativement substitué ; le groupe Y représente un groupe amide facultativement substitué ou un groupe naphtotriazole facultativement substitué ; et chacun de p et q représente indépendamment un nombre entier de 0 à 2.
(JA) 本発明は、下記式(1)で表されスチルベン系化合物又はその塩であり、式(1)中、基Xは、ニトロ基又は置換基を有してもよいアミノ基を表し、基Yは、置換基を有してもよいアミド基又は置換基を有してもよいナフトトリアゾール基を表し、p及びqは、それぞれ独立に0~2の整数を表す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)