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1. (WO2019022175) インプリント用硬化性組成物、硬化物、パターン製造方法、リソグラフィ方法、パターン、および、インプリント用重合性組成物
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国際公開番号: WO/2019/022175 国際出願番号: PCT/JP2018/028019
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 26.07.2018
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,B29C 59/02 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
59
表面成形,例.エンボス;そのための装置
02
機械的手段,例.プレス,によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
3065
プラズマエッチング;反応性イオンエッチング
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
下重 直也 SHIMOJU Naoya; JP
渋谷 明規 SHIBUYA Akinori; JP
後藤 雄一郎 GOTO Yuichiro; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2017-14453026.07.2017JP
発明の名称: (EN) CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTING, CURED PRODUCT, PATTERN PRODUCTION METHOD, LITHOGRAPHY METHOD, PATTERN AND POLYMERIZABLE COMPOSITION FOR IMPRINTING
(FR) COMPOSITION DURCISSABLE POUR IMPRESSION, PRODUIT DURCI, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF, PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE, MOTIF ET COMPOSITION POLYMÉRISABLE POUR IMPRESSION
(JA) インプリント用硬化性組成物、硬化物、パターン製造方法、リソグラフィ方法、パターン、および、インプリント用重合性組成物
要約:
(EN) Provided are: a curable composition for imprinting, which has excellent storage stability, and a cured product of which exhibits high adhesion to a substrate; a polymerizable composition for imprinting; a cured product; a pattern production method; a lithography method; a pattern; and a mask for lithography. A curable composition for imprinting, which contains a compound represented by formula (1), a radically polymerizable compound other than the compound represented by formula (1), and a radical photopolymerization initiator. In formula (1), each of R1 and R2 independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1-8 carbon atoms, and R1 and R2 may combine with each other to form a ring; R3 represents a monovalent organic group; and each of R4 and R5 independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.
(FR) L'invention concerne : une composition durcissable pour impression, qui présente une excellente stabilité au stockage, et un produit durci qui présente une adhérence élevée à un substrat; une composition polymérisable pour impression; un produit durci; un procédé de production de motif; un procédé de lithographie; un motif; et un masque pour lithographie. L'invention concerne une composition durcissable pour impression, qui contient un composé représenté par la formule (1), un composé polymérisable par voie radicalaire autre que le composé représenté par la formule (1), et un initiateur de photopolymérisation radicalaire. Dans la formule (1), chacun de R1 et R2 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique ayant de 1 à 8 atomes de carbone, et R1 et R2 peuvent se combiner les uns avec les autres pour former un cycle ; R3 représente un groupe organique monovalent; et chacun de R4 et R5 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent.
(JA) 硬化物としたときの基板との密着性が高く、保存安定性に優れたインプリント用硬化性組成物、インプリント用重合性組成物、硬化物、パターン製造方法、リソグラフィ方法、パターン、およびリソグラフィ用マスクを提供する。下記式(1)で表される化合物と、式(1)で表される化合物以外のラジカル重合性化合物と、光ラジカル重合開始剤を含む、インプリント用硬化性組成物;式(1)中、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または炭素数1~8の有機基であり、互いに結合して環を形成していてもよい;Rは1価の有機基である;RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子または1価の有機基である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)