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1. (WO2019022174) ろ過装置、精製装置、薬液の製造装置、ろ過済み被精製物、薬液、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2019/022174 国際出願番号: PCT/JP2018/028018
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 26.07.2018
IPC:
B01D 61/58 (2006.01) ,B01D 61/18 (2006.01) ,B01D 63/06 (2006.01) ,B01D 63/14 (2006.01) ,B01D 65/02 (2006.01) ,B01D 69/00 (2006.01) ,B01D 71/02 (2006.01) ,B01D 71/04 (2006.01) ,B01D 71/10 (2006.01) ,B01D 71/26 (2006.01) ,B01D 71/28 (2006.01) ,B01D 71/32 (2006.01) ,B01D 71/56 (2006.01) ,B01D 71/68 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
58
多段階工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
61
半透膜を用いる分離工程,例.透析,浸透または限外ろ過;そのために特に適用される装置,付属品または補助操作
14
限外ろ過;精密ろ過
18
そのための装置
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
63
半透膜を用いる分離工程のための装置一般
06
管状膜モジュール
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
63
半透膜を用いる分離工程のための装置一般
14
プリーツ型膜モジュール
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
65
半透膜を用いる分離工程または装置のための付属品または補助操作
02
膜の洗浄または滅菌
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
無機材料
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
無機材料
04
ガラス
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
08
多糖類
10
セルロース;セルロース変性物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
26
ポリアルケン
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
28
ビニル芳香族化合物の重合体
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
30
ポリアルケニルハロゲン化合物
32
ふっ素原子を含むもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
56
ポリアミド,例.ポリエステルアミド
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
06
有機材料
66
主鎖に窒素,酸素または炭素のみを有しまたは有せずに硫黄を含有する重合体
68
ポリスルホン;ポリエーテルスルホン
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
清水 哲也 SHIMIZU Tetsuya; JP
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
優先権情報:
2017-14436326.07.2017JP
2018-13862524.07.2018JP
発明の名称: (EN) FILTRATION APPARATUS, PURIFICATION APPARATUS, APPARATUS FOR MANUFACTURING CHEMICAL SOLUTION, FILTERED PURIFIABLE MATERIAL, CHEMICAL SOLUTION, AND ACTINIC RAY-CURABLE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) APPAREIL DE FILTRATION, APPAREIL DE PURIFICATION, APPAREIL DE FABRICATION D'UNE SOLUTION CHIMIQUE, MATÉRIAU PURIFIABLE FILTRÉ, SOLUTION CHIMIQUE, ET COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT ACTINIQUE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) ろ過装置、精製装置、薬液の製造装置、ろ過済み被精製物、薬液、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a filtration apparatus capable of obtaining a high-performance chemical solution and having sufficiently long filter medium life, and also addresses the problem of providing a purification apparatus, an apparatus for manufacturing a chemical solution, a filtered purifiable material, a chemical solution, and an actinic ray-curable or radiation-sensitive resin composition. This filtration apparatus has a first filter unit comprising a first filter and a housing accommodating the first filter and a second filter unit comprising a second filter that is different from the first filter and a housing accommodating the second filter, said filter units being independently disposed in a pipeline for supplying purifiable material and satisfying at least one selection from a group consisting of requirements 1-3 as follows. Requirement 1: the filter has a filter medium comprising two or more layers, each including material different from each other. Requirement 2: the filter has a filter medium comprising two or more layers having different pore structures. Requirement 3: the filter has a filter medium comprising one layer wherein is a mix of different materials.
(FR) La présente invention aborde la question de fournir un appareil de filtration capable de produire une solution chimique à haute performance et ayant une durée de vie de matière filtrante suffisamment longue, et de fournir également un appareil de purification, un appareil de fabrication d'une solution chimique, une matière purifiable filtrée, une solution chimique, et une composition de résine durcissante par rayonnement actinique ou sensible au rayonnement. Cet appareil de filtration comprend une première unité de filtre comprenant un premier filtre et un boîtier recevant le premier filtre et une seconde unité de filtre comprenant un second filtre, qui est différent du premier, et un boîtier recevant le second filtre, lesdites unités de filtre étant disposées indépendamment dans une canalisation pour fournir un matériau purifiable, et satisfaisant au moins une sélection parmi un groupe constitué des exigences 1-3 comme suit. Exigence 1 : le filtre a un milieu filtrant comprenant deux couches ou plus, chacune comprenant un matériau différent l'un de l'autre. Exigence 2 : le filtre a un milieu filtrant comprenant deux couches ou plus ayant différentes structures de pores. Exigence 3 : le filtre a un milieu filtrant comprenant une couche dans laquelle on retrouve un mélange de différents matériaux.
(JA) 本発明は、優れた性能を有する薬液を得られ、かつ、ろ過材の寿命が十分に長いろ過装置を提供することを課題とする。また、精製装置、薬液の製造装置、ろ過済み被精製物、薬液、及び、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供することを課題とする。本発明のろ過装置は、被精製物が供給される管路中に、独立して配置された、以下の要件1~3からなる群から選択される少なくとも1つ;要件1:フィルタが、それぞれ異なる材料を含む2つ以上の層を含むろ過材を有する。要件2:フィルタが、異なる細孔構造を有する2つ以上の層を含むろ過材を有する要件3:フィルタが、異なる材料が混合された1つの層を含むろ過材を有する、を満たす第1フィルタ及び第1フィルタを収容するハウジングからなる第1フィルタユニットと、第1フィルタとは異なる第2フィルタ及び第2フィルタを収納するハウジングからなる第2フィルタユニットと、を有する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)