このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019022169) 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/022169 国際出願番号: PCT/JP2018/027984
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 25.07.2018
IPC:
G02B 5/22 (2006.01) ,C08F 2/44 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01) ,C09B 67/20 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/40 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
22
吸収フィルター
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
44
配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
101
不特定の高分子化合物の組成物
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
67
化学反応によらない,たとえば溶剤処理による染料の物性,たとえば染色性または捺染性の影響;染料製造における工程的特徴;特定の物性を有する染料,例.フイルムの製造
20
有機顔料の製造
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
038
不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26
感光材料の処理;そのための装置
40
画像様除去後の処理,例.加熱
G 物理学
09
教育;暗号方法;表示;広告;シール
F
表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9
情報が個別素子の選択または組合わせによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
長屋 勝也 NAGAYA Katsuya; JP
一戸 大吾 ICHINOHE Daigo; JP
牧内 直征 MAKIUCHI Naoyuki; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-14473726.07.2017JP
2017-18921628.09.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR INFRARED PERMEABLE FILM FORMATION, INFRARED PERMEABLE FILM FORMATION METHOD, PROTECTIVE PLATE FOR DISPLAY DEVICE, AND DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION POUR FORMATION DE FILM PERMÉABLE AUX INFRAROUGES, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM PERMÉABLE AUX INFRAROUGES, PLAQUE DE PROTECTION POUR DISPOSITIF D'AFFICHAGE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a composition for the formation of an infrared permeable film to be provided inside an opening for infrared communications, the opening being formed in a frame part of a protective plate for a display device, and the composition for the formation of an infrared permeable film being capable of forming an infrared permeable film which can maintain infrared permeability and can be coordinated with the hue of the surrounding frame part; and to provide: an infrared permeable film formation method that uses the composition; a protective plate for a display device; and a display device. The present invention is a composition for the formation of an infrared permeable film to be provided inside an opening for infrared communications, the opening being formed in a frame part of a protective plate for a display device, and the composition containing: a pigment A having an absorption peak in a wavelength range of 400-580 nm inclusive; a pigment B having an absorption peak in a wavelength range of 581-700 nm inclusive; and a pigment C having an absorption peak in a wavelength range of 701-800 nm inclusive.
(FR) Le but de la présente invention est de fournir une composition pour la formation d'un film perméable aux infrarouges à disposer à l'intérieur d'une ouverture pour des communications infrarouges, l'ouverture étant formée dans une partie de cadre d'une plaque de protection pour un dispositif d'affichage, et la composition pour la formation d'un film perméable aux infrarouges étant apte à former un film perméable aux infrarouges qui peut maintenir une perméabilité aux infrarouges et peut être coordonné avec la teinte de la partie de cadre environnante ; et de fournir : un procédé de formation de film perméable aux infrarouges qui utilise la composition ; une plaque de protection pour un dispositif d'affichage ; et un dispositif d'affichage. La présente invention concerne une composition pour la formation d'un film perméable aux infrarouges à disposer à l'intérieur d'une ouverture pour des communications infrarouges, l'ouverture étant formée dans une partie de cadre d'une plaque de protection pour un dispositif d'affichage, et la composition contenant : un pigment A ayant un pic d'absorption dans une plage de longueur d'onde de 400 à 580 nm inclus; un pigment B ayant un pic d'absorption dans une plage de longueur d'onde de 581 à 700 nm inclus; et un pigment C ayant un pic d'absorption dans une plage de longueur d'onde de 701 à 800 nm inclus.
(JA) 表示装置用保護板の額縁部に形成された赤外線通信用の開口部内に設けられる赤外線透過膜を形成するための組成物であって、赤外線透過性を維持しつつ、周辺の額縁部の色目との同調が可能な赤外線透過膜を形成可能な赤外線透過膜形成用組成物、並びに、これを用いた赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板及び表示装置を提供することを目的とする。本発明は、表示装置用保護板の額縁部に形成された赤外線通信用の開口部内に設けられる赤外線透過膜を形成するための組成物であって、上記組成物が、波長400nm以上580nm以下の領域に吸収極大を有する色素A、波長581nm以上700nm以下の領域に吸収極大を有する色素B、及び波長701nm以上800nm以下の領域に吸収極大を有する色素Cを含有する赤外線透過膜形成用組成物である。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)