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1. (WO2019021897) 研磨布
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国際公開番号: WO/2019/021897 国際出願番号: PCT/JP2018/026805
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 18.07.2018
IPC:
B24B 37/24 (2012.01) ,D06M 15/564 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
11
ラップ工具
20
平面を加工するためのラッピングパッド
24
パッドの材料の組成または特性に特徴のあるもの
D 繊維;紙
06
繊維または類似のものの処理;洗濯;他に分類されない可とう性材料
M
繊維,より糸,糸,織物,羽毛またはこのような材料から製造された繊維製品のクラスD06の他に分類されない処理
15
繊維,より糸,糸,織物またはこのような材料から製造された繊維製品の高分子化合物による処理;機械的処理と組み合わせられたこのような処理
19
合成高分子化合物によるもの
37
炭素―炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
564
ポリ尿素,ポリウレタンまたはウレイドまたはウレタン連結基をもつ他の重合体;その初期縮合物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
ニッタ・ハース株式会社 NITTA HAAS INCORPORATED [JP/JP]; 大阪府大阪市浪速区桜川4-4-26 4-4-26, Sakuragawa, Naniwa-ku, Osaka-shi, Osaka 5560022, JP
発明者:
山本 惠司 YAMAMOTO, Keiji; JP
岳田 孝司 OKADA, Kouji; JP
伊藤 栄直 ITO, Shigenao; JP
代理人:
特許業務法人藤本パートナーズ FUJIMOTO & PARTNERS; 大阪府大阪市中央区南船場1丁目15番14号 堺筋稲畑ビル2階 Sakaisuji-Inabata Bldg. 2F, 15-14, Minamisemba 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5420081, JP
優先権情報:
2017-14343625.07.2017JP
発明の名称: (EN) POLISHING CLOTH
(FR) CHIFFON À LUSTRER
(JA) 研磨布
要約:
(EN) The present invention is a polishing cloth provided with, as forming materials: a nonwoven fabric; and a resin impregnating the nonwoven fabric, wherein the existence rate of the forming materials in an area from the center portion in the thickness direction to one surface is 30-60%, and the difference between the maximum value and the minimum value of the existence rate in the thickness direction is 10% or lower.
(FR) La présente invention concerne un chiffon à lustrer comportant, en tant que matériaux de formation : un non-tissé ; et une résine imprégnant le non-tissé, le taux de présence des matériaux de formation dans une zone allant de la partie centrale dans la direction d'épaisseur à une surface étant de 30 à 60 %, et la différence entre la valeur maximale et la valeur minimale du taux de présence dans la direction de l'épaisseur étant inférieure ou égale à 10 %.
(JA) 本発明は、形成材料として、不織布と、該不織布に含浸された樹脂とを備えた研磨布であって、厚み方向中央部から一方の表面までの前記形成材料の存在比率が30~60%であり、且つ、前記厚み方向における前記存在比率の最大値と最小値との差が10%以下である、研磨布である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)