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1. (WO2019021858) 露光装置および露光方法
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国際公開番号: WO/2019/021858 国際出願番号: PCT/JP2018/026490
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 13.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 19/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
19
コンデンサー
出願人:
凸版印刷株式会社 TOPPAN PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 東京都台東区台東１丁目５番１号 5-1, Taito 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100016, JP
発明者:
奥村　哲人 OKUMURA Akihito; JP
元田　善規 MOTODA Yoshinori; JP
宮地　宏昭 MIYAJI Hiroaki; JP
代理人:
松沼　泰史 MATSUNUMA Yasushi; JP
鈴木　史朗 SUZUKI Shirou; JP
清水　雄一郎 SHIMIZU Yuichiro; JP
大槻　真紀子 OTSUKI Makiko; JP
優先権情報:
2017-14344325.07.2017JP
2017-14349025.07.2017JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置および露光方法
要約:
(EN) An exposure device 100 comprises: a main illumination light source 2 for producing first exposure light L1A, L1B; a field stop 3 wherein a plurality of openings is staggered around a first axis line in plan view; a plurality of first projection optical systems for projecting each light image based on the first exposure light L1A, L1B onto an exposed object 6; an additional illumination light source 12 for exposure, arranged adjacent to the main illumination light source 2 in a first direction, for producing second exposure light L2A, L2B used to irradiate a photomask 1; and a correction exposure unit. A composite aperture area rc and a single aperture area rs are formed alternately in a second direction in the stop member. The correction exposure unit irradiates the exposed object 6 with the second exposure light L12A, L12B within a light correction area.
(FR) L'invention concerne un dispositif d'exposition (100) qui comprend : une source lumineuse principale (2) pour produire une première lumière d'exposition L1 A, L1 B; un diaphragme de champ (3) dans lequel une pluralité d'ouvertures est échelonnée autour d'une première ligne d'axe dans une vue en plan; une pluralité de premiers systèmes optiques de projection pour projeter chaque image de lumière sur la base de la première lumière d'exposition L1 A, L1 B sur un objet exposé (6); une source lumineuse supplémentaire (12) pour le processus d'exposition, positionnée de façon adjacente à la source lumineuse principale (2) dans une première direction afin de produire une seconde lumière d'exposition L2 A, L2 B utilisée pour irradier un photomasque (1); et une unité d'exposition de correction. Une zone d'ouverture composite rc et une zone d'ouverture unique rs sont formées en alternance dans une seconde direction dans l'élément d'arrêt. L'unité d'exposition de correction irradie l'objet exposé (6) avec la seconde lumière d'exposition L12 A, L12 B à l'intérieur d'une zone de correction de lumière.
(JA) 露光装置１００は、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂを発生する主照明光源２と、平面視において第１の軸線を中心として千鳥配列された複数の開口部が形成された視野絞り３と、第１の露光光Ｌ１Ａ、Ｌ１Ｂによる光像を、それぞれ被露光体６に投影する複数の第１の投影光学系と、主照明光源２に対して第１の方向に隣り合うように配置され、フォトマスク１に照射する第２の露光光Ｌ２Ａ、Ｌ２Ｂを発生する追加露光用照明光源１２と、補正露光部と、を備え、前記絞り部材には、複合開口領域ｒＣと、単独開口領域ｒＳと、が第２の方向において交互に形成され、前記補正露光部は、光量補正領域に限って、第２の露光光Ｌ１２Ａ、Ｌ１２Ｂを被露光体６に照射する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)