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1. (WO2019021629) センサIC
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国際公開番号: WO/2019/021629 国際出願番号: PCT/JP2018/021252
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 01.06.2018
IPC:
G01N 27/22 (2006.01) ,H01L 21/822 (2006.01) ,H01L 27/04 (2006.01)
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
27
電気的,電気化学的,または磁気的手段の利用による材料の調査または分析
02
インピーダンスの調査によるもの
22
容量の調査によるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
70
1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
77
1つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78
複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82
それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822
基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02
整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04
基板が半導体本体であるもの
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
満仲 健 MITSUNAKA, Takeshi; --
齊藤 晶 SAITO, Akira; --
芦田 伸之 ASHIDA, Nobuyuki; --
代理人:
特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報:
2017-14484426.07.2017JP
発明の名称: (EN) SENSOR IC
(FR) CIRCUIT INTÉGRÉ DE CAPTEUR
(JA) センサIC
要約:
(EN) The present invention makes it possible to reduce the possibility of the occurrence of variance in sensing results. A dielectrophoretic electrode (21) generates dielectrophoresis between a subject to be inspected and the dielectrophoretic electrode, and a distance (d1) between an inductor (15) and an upper surface (20s) of a protection film (20) is longer than a distance (d2) between an electrode unit (18) and the upper surface (20s) of the protection film (20), and is also longer than a distance (d2) between the dielectrophoretic electrode (21) and the upper surface (20s) of the protection film (20).
(FR) La présente invention permet de réduire la possibilité d'apparition de variance dans des résultats de détection. Une électrode diélectrophorétique (21) génère une diélectrophorèse entre un sujet à inspecter et l'électrode diélectrophorétique, et une distance (d1) entre un inducteur (15) et une surface supérieure (20s) d'un film de protection (20) est supérieure à une distance (d2) entre une unité d'électrode (18) et la surface supérieure (20s) du film de protection (20), et est également supérieure à une distance (d2) entre l'électrode diélectrophorétique (21) et la surface supérieure (20s) du film de protection (20).
(JA) センシング結果にバラつきが生じる虞を低減することを可能とする。誘電泳動電極(21)は、被検査体との間で誘電泳動を発生させ、保護膜(20)の上面(20s)とインダクタ(15)との距離(d1)は、保護膜(20)の上面(20s)と電極部(18)との距離(d2)より大きく、かつ、保護膜(20)の上面(20s)と誘電泳動電極(21)との距離(d2)より大きい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)