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1. (WO2019021519) スパッタリング装置用のカソードユニット
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国際公開番号: WO/2019/021519 国際出願番号: PCT/JP2018/008619
国際公開日: 31.01.2019 国際出願日: 06.03.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
中村 真也 NAKAMURA Shinya; JP
田代 征仁 TASHIRO Yukihito; JP
代理人:
特許業務法人青莪 SEIGA PATENT AND TRADEMARK CORPORATION; 東京都品川区西五反田8-1-14 最勝ビル9階 9th Fl., Saisho Bldg., 1-14, Nishi-Gotanda 8-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031, JP
優先権情報:
2017-14336425.07.2017JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING DEVICE CATHODE UNIT
(FR) UNITÉ DE CATHODE DE DISPOSITIF DE PULVÉRISATION
(JA) スパッタリング装置用のカソードユニット
要約:
(EN) Provided is a sputtering device cathode unit with which a target can be exchanged without opening a vacuum chamber to the atmosphere. This sputtering device cathode unit CU is provided with: a support frame 1 attached to the outer wall of a vacuum chamber; an annular movable base 2 that moves in a reciprocating manner so as to be able to approach and retreat from the vacuum chamber; a rotating shaft 3 pivotally supported by said movable base; at least one target holder 51, 52; a reserve chamber Rc with an opening/closing door Rd; and a pair of vacuum bellows 71 and 72 surrounding the target holder. The target holder is provided with isolation parts 51a and 51b, which, when the movable base is in the film formation position, tightly contact the margin of a first opening Vc1 and isolate the inside of the vacuum chamber in which there is a target, and when the movable base is in the exchange position, tightly contact the margin of a second opening Rc2 and isolate the inside of the reserve chamber in which there is a target. A rotation mechanism Dm2 for rotating the rotating shaft when the isolation parts are in the neutral position of the movable base is also provided.
(FR) L'invention concerne une unité de cathode de dispositif de pulvérisation qui permet de remplacer une cible sans ouvrir une chambre à vide à l'atmosphère. Cette unité de cathode CU de dispositif de pulvérisation comprend : une structure de support 1 fixée à la paroi externe d'une chambre à vide ; une base annulaire mobile 2 qui se déplace selon un mouvement de va-et-vient pour s'approcher et s'éloigner de la chambre à vide ; un arbre rotatif 3 supporté pivotant par ladite base mobile ; au moins un porte-cible 51, 52 ; une chambre de réserve Rc dotée d'une porte d'ouverture/fermeture Rd ; et une paire de soufflets à vide 71 et 72 de part et d'autre du porte-cible. Le porte-cible comporte des parties d'isolation 51a et 51b, qui, quand la base mobile est en position de formation de film, sont en étroit contact avec la marge d'une première ouverture Vc1 et isolent l'intérieur de la chambre à vide dans laquelle se trouve la cible, et quand la base mobile est en position de remplacement, sont en étroit contact avec la marge d'une seconde ouverture Rc2 et isolent l'intérieur de la chambre de réserve dans laquelle se trouve une cible. Un mécanisme de rotation Dm2 pour faire tourner l'arbre rotatif quand les parties d'isolation sont en position neutre de la base mobile est également décrit.
(JA) 真空チャンバを大気開放することなく、ターゲットが交換できるスパッタリング装置用のカソードユニットを提供する。本発明のスパッタリング装置用のカソードユニットCUは、真空チャンバの外壁に取り付けられる支持フレーム1と、真空チャンバに対して近接離間可能に進退する環状の可動ベース2と、当該可動ベースで軸支された回転軸体3と、少なくとも1個のターゲットホルダ5,5と、開閉扉Rdを有する予備チャンバRcと、ターゲットホルダを囲繞する一対の真空ベローズ7,7とを備え、可動ベースの成膜位置では第1開口Vc1の周縁部に密接してターゲットが存する真空チャンバ内を隔絶すると共に、可動ベースの交換位置では第2開口Rc2の周縁部に密接してターゲットが存する予備チャンバ内を隔絶する隔絶部51a,51bがターゲットホルダに設けられ、隔絶部が可動ベースの中立位置で回転軸体を回転する回転機構Dm2を更に備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)