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1. (WO2019017332) ポリシルセスキオキサン系化合物を含む組成物、その製造方法、並びに当該組成物を含む封止材及びフィルム
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国際公開番号: WO/2019/017332 国際出願番号: PCT/JP2018/026717
国際公開日: 24.01.2019 国際出願日: 17.07.2018
IPC:
C08G 77/50 (2006.01) ,C08L 83/14 (2006.01) ,H01L 33/56 (2010.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77
高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
48
すべてではないが少くとも2個のけい素原子が酸素原子以外の連結基により結合されているもの
50
炭素連結基によるもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L
高分子化合物の組成物
83
主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
14
少なくとも2個だが全てではないけい素原子が酸素原子以外の結合によって結合されているもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
33
光の放出に特に適用される少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する半導体装置;それらの装置またはその部品の製造,あるいは処理に特に適用される方法または装置;それらの装置の細部
48
半導体素子本体のパッケージに特徴のあるもの
52
封止
56
材料,例.エポキシ樹脂,シリコン樹脂
出願人:
スタンレー電気株式会社 STANLEY ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 東京都目黒区中目黒2-9-13 2-9-13, Nakameguro, Meguro-ku, Tokyo 1538636, JP
学校法人東京理科大学 TOKYO UNIVERSITY OF SCIENCE FOUNDATION [JP/JP]; 東京都新宿区神楽坂一丁目3番地 1-3, Kagurazaka, Shinjuku-ku, Tokyo 1628601, JP
発明者:
伊藤 功三郎 ITO, Kosaburo; JP
多田 励起 TADA, Reiki; JP
郡司 天博 GUNJI, Takahiro; JP
代理人:
特許業務法人 山王坂特許事務所 SANNOZAKA PATENT LAW FIRM; 神奈川県横浜市神奈川区鶴屋町2丁目26番地2 第4安田ビル9階 4th Yasuda Building 9F, 26-2, Tsuruyacho 2-chome, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2210835, JP
優先権情報:
2017-14190721.07.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION CONTAINING POLYSILSESQUIOXANE-BASED COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND SEALING MATERIAL AND FILM COMPRISING SAID COMPOSITION
(FR) COMPOSITION CONTENANT UN COMPOSÉ À BASE DE POLYSILSESQUIOXANE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION, ET MATÉRIAU ET FILM D'ÉTANCHÉITÉ LA CONTENANT
(JA) ポリシルセスキオキサン系化合物を含む組成物、その製造方法、並びに当該組成物を含む封止材及びフィルム
要約:
(EN) Provided is a resin composition which exhibits excellent light transmissivity in the ultraviolet to visible region and excellent moldability, and has a low coefficient of linear expansion following molding. A cage type silsesquioxane having two or more SiH groups in the molecule and a monomer having two or more hydroxyl groups in the molecule are copolymerized in the presence of a dehydrogenation catalyst. The molecular length of the monomer is preferably similar to that of the cage type silsesquioxane, and the monomer is used at a quantity of 0.5 equivalents or more relative to the cage type silsesquioxane. By adjusting the quantity of the monomer, it is possible to adjust the density and brittleness when the composition is formed into a molded article.
(FR) L'invention concerne une composition de résine douée d'une excellente transmissivité de la lumière dans le domaine de l'ultraviolet à la lumière visible et d'une excellente aptitude au moulage, et qui présente a un faible coefficient de dilatation linéaire après moulage. Un silsesquioxane de type cage contenant deux groupes SiH ou plus dans la molécule et un monomère contenant deux groupes hydroxyle ou plus dans la molécule sont copolymérisés en présence d'un catalyseur de déshydrogénation. La longueur moléculaire du monomère est de préférence similaire à celle du silsesquioxane de type cage, et le monomère est utilisé en une quantité de 0,5 équivalent ou plus par rapport au silsesquioxane de type cage. L'ajustement de la quantité du monomère permet d'ajuster la densité et la fragilité quand la composition est mise en forme pour obtenir un article moulé.
(JA) 紫外から可視領域の光透過性に優れ、成形性に優れ、成形後の線膨張係数が低い樹脂組成物を提供する。 分子内に2以上のSiH基を持つかご型シルセスキオキサンと、分子内にヒドロキシル基を2以上持つモノマーとを脱水素触媒の存在下で共重合させる。モノマーは分子長がかご型シルセスキオキサンと同程度であることが好ましく、かご型シルセスキオキサンに対し、0.5当量以上用いる。モノマーの量を調整することで、組成物を成形品としたときの密度や脆性を調整することができる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)