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1. (WO2019012978) 基板搬送装置および基板搬送方法
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国際公開番号: WO/2019/012978 国際出願番号: PCT/JP2018/024099
国際公開日: 17.01.2019 国際出願日: 26.06.2018
IPC:
H01L 21/677 (2006.01) ,B65G 49/00 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
677
移送のためのもの,例.異なるワ―クステーション間での移送
B 処理操作;運輸
65
運搬;包装;貯蔵;薄板状または線条材料の取扱い
G
運搬または貯蔵装置,例.荷積みまたは荷あげ用コンベヤ;工場コンベヤシステムまたは空気管コンベヤ
49
他の分類に属せず,特殊な目的に適用されることを特徴とする移送装置
出願人:
東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 東京都港区赤坂五丁目3番1号 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325, JP
発明者:
森川 勝洋 MORIKAWA, Katsuhiro; JP
代理人:
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
優先権情報:
2017-13479810.07.2017JP
発明の名称: (EN) SUBSTRATE TRANSFER DEVICE AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRANSFERT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ DE TRANSFERT DE SUBSTRAT
(JA) 基板搬送装置および基板搬送方法
要約:
(EN) The substrate transfer device relating to an embodiment of the present invention is provided with a holding unit (80) and a supply unit (81). The holding unit (80) holds a substrate having a pattern that is formed on a front surface (Wa) thereof. The supply unit (81) supplies an inert gas (G) to the front surface (Wa) of the substrate held by the holding unit (80), said inert gas causing the front surface (Wa) of the substrate to be locally in a low-oxygen state.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de transfert de substrat qui comprend, selon un mode de réalisation de la présente invention, une unité de retenue (80) et une unité d'alimentation (81). L'unité de retenue (80) retient un substrat présentant un motif qui est formé sur sa surface avant (Wa). L'unité d'alimentation (81) amène un gaz inerte (G) jusqu'à la surface avant (Wa) du substrat retenu par l'unité de retenue (80), ledit gaz inerte amenant la surface avant (Wa) du substrat à être localement dans des conditions de faible teneur en oxygène.
(JA) 実施形態に係る基板搬送装置は、保持部(80)と、供給部(81)とを備える。保持部(80)は、おもて面(Wa)にパターンが形成されている基板を保持する。供給部(81)は、保持部(80)に保持される基板のおもて面(Wa)を局所的に低酸素状態にする不活性ガス(G)を基板のおもて面(Wa)に供給する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)