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1. (WO2019012829) インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法
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国際公開番号: WO/2019/012829 国際出願番号: PCT/JP2018/020648
国際公開日: 17.01.2019 国際出願日: 30.05.2018
IPC:
B41J 2/14 (2006.01) ,B41J 2/16 (2006.01) ,B41J 2/165 (2006.01)
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
005
液体または粒子を選択的にプリンティング材料に接触させることに特徴があるもの
01
インクジェット
135
ノズル
14
その構造
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
005
液体または粒子を選択的にプリンティング材料に接触させることに特徴があるもの
01
インクジェット
135
ノズル
16
ノズルの製造
B 処理操作;運輸
41
印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
J
タイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2
設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
005
液体または粒子を選択的にプリンティング材料に接触させることに特徴があるもの
01
インクジェット
135
ノズル
165
ノズルの目詰り防止,例.ノズルの浄化,キャッピングまたは湿らすこと
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 2-7-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
下村 明久 SHIMOMURA, Akihisa; JP
鈴木 綾子 SUZUKI, Ayako; JP
佐藤 洋平 SATO, Yohei; JP
中野 陽介 NAKANO, Yosuke; JP
江口 秀幸 EGUCHI, Hideyuki; JP
山田 晃久 YAMADA, Akihisa; JP
代理人:
特許業務法人光陽国際特許事務所 KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM; 東京都千代田区有楽町一丁目1番3号 東京宝塚ビル17階 17F., Tokyo Takarazuka Bldg., 1-1-3, Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006, JP
優先権情報:
2017-13472310.07.2017JP
発明の名称: (EN) INKJET HEAD, INKJET RECORDING DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING INKJET HEAD
(FR) TÊTE À JET D'ENCRE, DISPOSITIF D'ENREGISTREMENT À JET D'ENCRE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE TÊTE À JET D'ENCRE
(JA) インクジェットヘッド、インクジェット記録装置及びインクジェットヘッドの製造方法
要約:
(EN) The present invention addresses the problem of improving reactivity with liquid repellent agents and resistance to inks of the ejection surface side of a nozzle substrate, thereby preventing decrease in the liquid repellency of the ejection surface side of the nozzle substrate. An inkjet head of an inkjet recording device according to the present invention is provided with a nozzle substrate 40A. The nozzle substrate 40A comprises: a base material part 41 that is provided with a nozzle 2411 from which an ink is ejected; a liquid repellent layer base film 42A that is formed on the ejection surface side of the base material part 41 and has a silicon carboxide film; and a liquid repellent layer 43 that is formed on the ejection surface side of the liquid repellent layer base film 42A.
(FR) La présente invention aborde le problème de l'amélioration de la réactivité avec des agents repoussant les liquides et de la résistance aux encres du côté surface d'éjection d'un substrat de buse, ce qui empêche une diminution de la répulsion des liquides du côté surface d'éjection du substrat de buse. À cet effet, la présente invention concerne une tête à jet d'encre d'un dispositif d'enregistrement à jet d'encre, pourvue d'un substrat de buse (40A). Le substrat de buse (40A) comprend : une partie de matériau de base (41) qui est pourvue d'une buse (2411) de laquelle une encre est éjectée ; un film de base de couche repoussant les liquides (42A) qui est formé sur le côté surface d'éjection de la partie de matériau de base (41) et qui comporte un film de carboxyde de silicium ; et une couche repoussant les liquides (43) qui est formée sur le côté surface d'éjection du film de base de couche repoussant les liquides (42A).
(JA) ノズル基板の射出面側の撥液剤との反応性及びインクに対する耐性を向上し、撥液性の低下を防ぐことである。 インクジェット記録装置のインクジェットヘッドは、ノズル基板40Aを備える。ノズル基板40Aは、インクを射出するノズル2411が形成された基材部41と、基材部41の射出面側に形成され、炭化酸化シリコン膜を有する撥液層下地膜42Aと、撥液層下地膜42Aの射出面側に形成された撥液層43と、を有するノズル基板である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)