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1. (WO2019012716) 下層膜形成組成物、パターン形成方法及びパターン形成下層膜形成用コポリマー
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国際公開番号: WO/2019/012716 国際出願番号: PCT/JP2017/045804
国際公開日: 17.01.2019 国際出願日: 20.12.2017
IPC:
G03F 7/11 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
出願人:
王子ホールディングス株式会社 OJI HOLDINGS CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区銀座四丁目7番5号 7-5, Ginza 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061, JP
発明者:
服部 貴美子 HATTORI Kimiko; JP
森田 和代 MORITA Kazuyo; JP
代理人:
特許業務法人特許事務所サイクス SIKS & CO.; 東京都中央区京橋一丁目8番7号 京橋日殖ビル8階 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031, JP
優先権情報:
2017-13745213.07.2017JP
発明の名称: (EN) UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND COPOLYMER FOR FORMING UNDERLAYER FILM USED FOR PATTERN FORMATION
(FR) COMPOSITION POUR LA FORMATION DE FILMS DE SOUS-COUCHE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS ET COPOLYMÈRE POUR FORMER UN FILM DE SOUS-COUCHE UTILISÉ POUR LA FORMATION DE MOTIFS
(JA) 下層膜形成組成物、パターン形成方法及びパターン形成下層膜形成用コポリマー
要約:
(EN) The present invention provides an underlayer film-forming composition that is made of a material highly soluble to an organic solvent, and that is capable of forming an underlayer film unlikely to crack in a heating treatment at a relatively low temperature in the atmosphere, and that, when an underlayer film is formed, enables a coated film to persist at a high rate with respect to an organic solvent. Provided are: an underlayer film-forming composition which is for forming an underlayer film used for pattern formation, and which comprises a copolymer and an organic solvent, wherein the copolymer has a polymerization part a and a polymerization part b, the polymerization part a has a sugar derivative part, the sugar derivative part is a pentose derivative part and/or a hexose derivative part, and the polymerization part b does not have a sugar derivative part; and a pattern-forming method.
(FR) La présente invention concerne une composition qui sert à la formation de films de sous-couche et qui est constituée d'un matériau hautement soluble dans un solvant organique, qui est capable de former un film de sous-couche peu susceptible de craquer dans un traitement thermique à une température relativement basse dans l'environnement, et qui permet à un film enduit d'avoir un taux élevé de persistance par rapport à un solvant organique lorsqu'un film de sous-couche est formé. L'invention comprend : une composition pour la formation de films de sous-couche qui est destinée à former un film de sous-couche utilisé pour la formation de motifs et qui comprend un copolymère et un solvant organique. Le copolymère possède une partie de polymérisation a et une partie de polymérisation b. La partie de polymérisation a possède une partie de dérivé de sucre, cette partie de dérivé de sucre étant une partie de dérivé de pentose et/ou une partie de dérivé d'hexose, et la partie de polymérisation b ne possède pas de partie de dérivé de sucre. L'invention comprend également un procédé de formation de motifs.
(JA) 下層膜形成組成物の材料の有機溶媒への溶解度が高く、大気下でかつ比較的低温での加熱処理で割れにくい下層膜を形成でき、下層膜を形成した場合に有機溶媒に対する塗布膜残存率が高い下層膜形成組成物の提供。コポリマーおよび有機溶媒を含み、コポリマーが重合部aおよび重合部bを有し、重合部aが糖誘導体部を有し、糖誘導体部がペントース誘導体部およびヘキソース誘導体部のうち少なくとも一つであり、重合部bは糖誘導体部を有さず、パターン形成に用いる下層膜形成用である、下層膜形成組成物;パターン形成方法。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)