このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2019012495) 計測装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2019/012495 国際出願番号: PCT/IB2018/055196
国際公開日: 17.01.2019 国際出願日: 13.07.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
9
原稿,マスク,フレーム,写真シート,表面構造または模様が作成された表面,の位置決めまたは位置合わせ,例.自動的なもの
出願人:
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; ヴェルトホーフェン 5500 エーエイチ,ピー.オー.ボックス 324 P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
発明者:
ビジネン,フランシスカス,ゴデフリドゥス,キャスパー BIJNEN, Franciscus Godefridus Casper; NL
金原 淳一 KANEHARA, Junichi; NL
ケイ,ステファン,カルロス,ヤコブス,アントニウス KEIJ, Stefan Carolus Jacobus Antonius; NL
マタール,トーマス,オウガスタス MATTAAR, Thomas Augustus; NL
ヴァン ギルス,ペトルス,フランシスカス VAN GILS, Petrus Franciscus; NL
優先権情報:
17181375.114.07.2017EP
18170698.703.05.2018EP
発明の名称: (EN) MEASUREMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL DE MESURE ET SYSTÈME D'ÉTAGES/MANIPULATEURS DE SUBSTRAT
(JA) 計測装置
要約:
(EN) [Problem] To improve the throughput performance and/or economy of a measurement apparatus. [Solution] This measurement apparatus is equipped with a first determination device, a second determination device, a first substrate stage configured to hold a first substrate and/or a second substrate, a second substrate stage configured to hold the first substrate and/or the second substrate, a first substrate handler configured to handle the first substrate and/or the second substrate, and a second substrate handler configured to handle the first substrate and/or the second substrate, wherein the first substrate is loaded from a first, second, or third FOUP, the second substrate is loaded from the first, second, or third FOUP, the first determination device is an alignment determination device, and the second determination device is a level sensor, a film thickness determination device, or a spectral reflectance determination device.
(FR) La présente invention permet d'améliorer les performances de rendement et/ou l'économie d'un appareil de mesure. L'appareil de mesure selon l'invention comprend un premier dispositif de mesure, un deuxième de mesure, un premier étage de substrat configuré pour maintenir un premier et/ou un deuxième substrat, un deuxième étage de substrat configuré pour maintenir le premier et/ou le deuxième substrat, un premier manipulateur de substrat configuré pour manipuler le premier et/ou le deuxième substrat, et un deuxième manipulateur de substrat configuré pour manipuler le premier et/ou le deuxième substrat, le premier substrat étant chargé à partir d'une première, deuxième ou troisième nacelle unifiée à ouverture frontale (FOUP), le deuxième substrat étant chargé à partir de la première, deuxième ou troisième FOUP, le premier dispositif de mesure étant un dispositif de mesure d'alignement et le deuxième dispositif de mesure étant un capteur de niveau, un dispositif de mesure d'épaisseur de film ou un dispositif de mesure de réflectance spectrale.
(JA) 【課題】計測装置のスループット性能及び/又は経済性を改善する。 【解決手段】本計測装置は、第1の測定装置と、第2の測定装置と、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第1の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板を保持するように構成された第2の基板ステージと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第1の基板ハンドラと、第1の基板及び/又は第2の基板をハンドリングするように構成された第2の基板ハンドラと、を備え、第1の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第2の基板は、第1、第2又は第3のFOUPからロードされ、第1の測定装置は、アライメント測定装置であり、第2の測定装置は、レベルセンサ、膜厚測定装置又は分光反射率測定装置である。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)